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《AIP会议论文集》[作者：SILICONPV 2018第八届晶体硅光伏国际会议——瑞士洛桑（2018年3月19-21日）]——理解工业级黑硅的光学特性

DOI：10.1063/1.5049297 出版年份：2018 更新时间：2025-10-22 19:40:53
摘要： 工业级黑硅制绒技术因能通过金刚线切割降低多晶硅片成本，且有望通过改善光学特性提升电池效率而日益受到重视。目前金属催化化学腐蚀（MCCE）和反应离子刻蚀（RIE）两种制绒工艺已成为主流工业化应用的主要候选方案。但这两类技术产生的绒面结构差异显著，且均具有宽泛的参数调控空间，可形成不同形貌与尺寸的表面特征。绒面不仅决定太阳能电池的总反射率，还通过散射作用影响光捕获与后续吸收。本研究针对多种衬底类型上的典型MCCE与RIE绒面开展系统分析，旨在深化理解这些特定表面形貌对光学特性的影响机制，从而更好地实现与其他工艺条件的协同整合，以及光学性能与电学性能的优化平衡。
作者： David Payne，Tsun Hang Fung，Muhammad Umair Khan，Jose Cruz-Campa，Keith McIntosh，Malcolm Abbott
机构： School of Photovoltaic and Renewable Energy Engineering, UNSW Sydney，1366 Technologies，PV Lighthouse
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

为了理解金属催化化学蚀刻（MCCE）和反应离子蚀刻（RIE）纹理对光伏用多晶硅片光学特性的影响。

研究成果

研究表明，反应离子刻蚀（RIE）纹理与金属催化化学刻蚀（MCCE）纹理在反射率和散射特性上存在显著差异：RIE纹理具有更优的减反射性能，而MCCE纹理则能实现更好的光捕获效果。研究发现基底波纹度会影响光捕获效率，这为未来优化提供了方向。该成果有助于开发柔性光学建模工具，用于研究粗糙度与波纹度对电池及组件性能的影响。

研究不足

该研究聚焦于光学特性，并未直接探讨这些纹理对电学特性及工艺集成的影响。由于纹理配方的工业属性，其具体细节未予提供。

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