研究目的
采用一种简单方法制备适用于大规模生产的1564 nm附近窄线宽半导体激光器。
研究成果
基于高阶布拉格光栅(HOBGs)结构研发了一种窄线宽分布反馈式(DBR)半导体激光器,实现了1564纳米的波长峰值、9.9毫瓦的输出功率、超过30分贝的边模抑制比以及70千赫的线宽。该方法避免了复杂光刻技术的高成本与低良率问题,为大规模生产提供了简易解决方案。
研究不足
由高阶布拉格光栅结构引起的高阶散射损耗会增大阈值电流,并降低输出功率和斜率效率。光栅沟槽不可过度刻蚀,以避免高阶散射增强。
研究目的
采用一种简单方法制备适用于大规模生产的1564 nm附近窄线宽半导体激光器。
研究成果
基于高阶布拉格光栅(HOBGs)结构研发了一种窄线宽分布反馈式(DBR)半导体激光器,实现了1564纳米的波长峰值、9.9毫瓦的输出功率、超过30分贝的边模抑制比以及70千赫的线宽。该方法避免了复杂光刻技术的高成本与低良率问题,为大规模生产提供了简易解决方案。
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由高阶布拉格光栅结构引起的高阶散射损耗会增大阈值电流,并降低输出功率和斜率效率。光栅沟槽不可过度刻蚀,以避免高阶散射增强。
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