研究目的
采用简便的薄膜-胶体纳米粒子组装方法，研究可见光波段具有宽带近完美吸收特性的等离子体超材料吸收器（MAs）的制备及其光学性能。
研究成果
该研究成功展示了一种简便方法，用于制备在可见光区域具有宽带近完美吸收的等离子体超材料阵列（MAs）。这些超材料阵列展现出高吸收效率，且可通过调节几何参数进行定制。该方法在太阳能收集和光热器件应用方面具有潜力。
研究不足
该研究未探讨金属有机框架（MAs）在环境条件下的长期稳定性，也未评估其在实验室外实际应用中的表现。同时，该方法在工业应用中的可扩展性亦未被论及。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用自下而上的方法，通过静电自组装技术在Al-SiO2薄膜上组装胶体八面体金纳米颗粒（Au NPs）来制备等离激元金属阵列（MAs）。具体包括真空磁控溅射法沉积薄膜和静电自组装法排列纳米颗粒。
2：样本选择与数据来源：
合成的胶体八面体金纳米颗粒被组装在Al-SiO2薄膜上，其光学特性通过紫外-可见-近红外分光光度计和椭圆偏振仪进行表征。
3：实验设备与材料清单：
扫描电子显微镜（ZEISS ULTRA PLUS-43-12）、紫外-可见-近红外分光光度计（Lambda 1050，珀金埃尔默）、椭圆偏振仪（SENTECH-SE850）、扫描白光干涉仪（布鲁克，NP FIEX）、真空磁控溅射系统（NSC-4000）。
4：2）、紫外-可见-近红外分光光度计（Lambda 1050，珀金埃尔默）、椭圆偏振仪（SENTECH-SE850）、扫描白光干涉仪（布鲁克，NP FIEX）、真空磁控溅射系统（NSC-4000）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：包括溅射Al和SiO2薄膜、合成金纳米八面体以及将其组装在薄膜上。通过光学表征和模拟分析吸收特性。
5：数据分析方法：
采用时域有限差分模拟（CST MicroWave Studio）对电磁响应进行建模，并与实验数据进行对比。
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SEM
ZEISS ULTRA PLUS-43-12
ZEISS
Characterization of the thickness of the SiO2 and Al films and the morphology and the surface density of the Au nanoctahedron.
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UV-Vis-NIR spectrophotometer
Lambda 1050
Perkin Elmer
UV-Vis-NIR absorption/reflection spectra measurements.
