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溶剂热合成中更强的还原环境提高了ZnO纳米晶体中镓的掺杂效率并增强了等离子体吸收

DOI:10.1002/pssa.201900335 期刊:physica status solidi (a) 出版年份:2019 更新时间:2025-09-11 14:15:04
摘要: 退化半导体氧化物等离子体纳米晶体的关键参数是掺杂水平。与其他采用长链碳氢化合物溶剂、脂肪酸和脂肪胺作为前驱体的合成方法相比,水热法和溶剂热法在实现主氧化物中高价态施主掺杂剂高浓度掺杂方面效果较差。因此,尽管它们具有可持续性、操作简便、试剂和设备成本相对较低以及环境影响较小等优势,但仍被排除在潜在合成方法之外。本文展示了一种在ZnO主晶格中实现Zn2?被异价Ga3?有效取代的方法,该方法通过溶剂替换或添加还原剂来增强溶剂热合成条件的还原能力。这种还原能力的提升导致介质氧化亲和力的增加,进而通过使反应平衡向释氧方向偏移,促进Ga3?掺入ZnO晶格。
作者: Andris ?utka,Anzelms Zukuls,Raivis Eglˉ?tis,Tanel K??mbre,Mati Kook,Sergei Vlassov,Kristaps Rubenis,Reinis Ignatans
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研究概述 实验方案 设备清单

研究溶剂热合成条件对ZnO纳米晶体中镓掺杂效率及其等离激元吸收特性的影响。

研究表明,在溶剂热合成过程中使用更强的还原剂,可以实现ZnO纳米晶体中更高的镓掺杂水平以及红外范围内更强的等离子体吸收。

该研究聚焦于溶剂热合成条件及其对镓掺杂效率和等离子体吸收的影响,未探讨其他合成方法或掺杂元素。

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