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[IEEE 2019欧洲激光与光电子学会议暨欧洲量子电子学会议(CLEO/Europe-EQEC) - 德国慕尼黑(2019.6.23-2019.6.27)] 2019年欧洲激光与光电子学会议暨欧洲量子电子学会议(CLEO/Europe-EQEC) - 采用飞秒激光三维光刻技术实现微光学元件的无缝制造

DOI:10.1109/cleoe-eqec.2019.8872765 出版年份:2019 更新时间:2025-09-11 14:15:04
摘要: 微光学是一个快速发展的领域,在为科学和工业提供用于微观尺度光控的小型高功能工具方面展现出巨大潜力。生产此类元件的最具前景技术之一是三维激光光刻(3DLL),因其能实现自由曲面三维物体的制造,且分辨率与表面粗糙度控制可达纳米级。尽管当前已取得进展,微光学元件打印仍存在一定局限。本研究提出一种同步线性平台与振镜扫描器的方法,可快速(平移速度最高达数毫米/秒)且无缝打印具有光学级表面光洁度、整体尺寸达数毫米的功能微光学元件,包括毫米级折射微透镜、菲涅尔透镜、微棱镜及不透明孔径。这些元件均通过单次打印步骤制成,彰显了3DLL作为直接且相对简单技术在此尺寸规模生产微光学元件的强大潜力。通过定性与定量方式研究了这些元件的质量与功能,并针对该尺寸尺度作业时面临的挑战提出展望及可能的解决方案。
作者: Dovil˙e Mackeviˇci ˉut˙e,Linas Jonuˇsauskas,Tomas Baravykas,Tomas Gadiˇsauskas,Darius Gaileviˇcius,Mangirdas Malinauskas
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研究概述 实验方案 设备清单

研究三维激光光刻(3DLL)技术在制造无拼接缺陷微光学元件方面的潜力,从而能够生产具有光学级表面光洁度的更大、更复杂的结构。

研究表明,在3D激光直写(3DLL)中同步线性平台与振镜扫描仪能有效制造出无缝衔接、尺寸达数毫米的功能性微光学元件。该方法为制备高质量微光学器件提供了一种简便易行的途径,在需要精确控制微尺度光场的诸多领域具有应用潜力。

该研究承认在毫米级尺寸下开展工作存在挑战,包括开发过程中可能出现的变形问题,部分透镜中略呈椭圆形的焦斑就表明了这一点。

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