研究目的
开发一种具有快速光束偏转功能的脉冲激光沉积系统,用于高效交替烧蚀多个靶材,以合成具有可控成分和性能的薄膜。
研究成果
与传统的脉冲激光沉积系统相比,RBD-PLD系统显著缩短了沉积时间,并提升了对薄膜成分和性能的控制能力。该系统能高效制备二元合金薄膜、成分梯度库以及成分渐变薄膜,同时最大限度减少挥发性组分的再蒸发。
研究不足
该系统的有效性受限于激光器的最大脉冲频率和振镜的扫描时间。成分扩散范围则受到样品尺寸较小以及需要精确控制烧蚀点位置的限制。
研究目的
开发一种具有快速光束偏转功能的脉冲激光沉积系统,用于高效交替烧蚀多个靶材,以合成具有可控成分和性能的薄膜。
研究成果
与传统的脉冲激光沉积系统相比,RBD-PLD系统显著缩短了沉积时间,并提升了对薄膜成分和性能的控制能力。该系统能高效制备二元合金薄膜、成分梯度库以及成分渐变薄膜,同时最大限度减少挥发性组分的再蒸发。
研究不足
该系统的有效性受限于激光器的最大脉冲频率和振镜的扫描时间。成分扩散范围则受到样品尺寸较小以及需要精确控制烧蚀点位置的限制。
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