研究目的
研究小光束与大光束测试光学元件抗激光损伤能力之间的相干性,并建立损伤概率与损伤密度之间的关联。
研究成果
该研究表明,采用小光束与大光束测试光学元件抗激光损伤能力时具有连贯性。验证了利用相位物体在大光束装置中复现小光束测试的可行性,并确立了损伤概率与损伤密度之间的明确关联。结果表明小光束测试能合理代表大光束测试,证实了针对两种测试流程所开发的方法及数据处理方案的有效性。
研究不足
该研究仅限于纳秒脉冲范围,重点关注光学元件的抗激光损伤能力。实验验证是在特定类型的光学元件(合成熔融石英窗口)上进行的,其结果可能无法直接适用于其他材料或脉冲范围。
1:实验设计与方法选择:
本研究使用同一激光源对同一光学元件进行小光束与大光束的激光损伤测试对比。小光束通过插入激光光路中的相位物体产生。
2:样本选择与数据来源:
实验在SESO公司超抛光处理的合成熔融石英窗口上进行,该元件尺寸足够大,可在单一光学元件上实施两种不同测试流程。
3:实验设备与材料清单:
包括名为MELBA的Nd:Glass激光装置、用于产生小光束的相位物体、用于空间轮廓测量的12位科学级CCD相机,以及用于时间轮廓测量的高分辨率时间诊断设备。
4:实验流程与操作步骤:
实验通过有无相位物体的照射对比光学元件的损伤密度与概率,使用长工作距离显微镜进行事后观测。
5:数据分析方法:
数据处理包括匹配能量密度图与损伤图以提取损伤密度和概率,通过特定数学处理从损伤概率计算损伤密度。
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