研究目的
通过等离子体辅助热丝蒸发法研究沉积在ITO/玻璃基底上的银纳米颗粒的形貌特性和组成,并将这些特性与OLED应用中至关重要的光学和电学性能相关联。
研究成果
在低于200°C的低基底温度下,将银纳米颗粒沉积在ITO/玻璃基底上,由于银纳米颗粒具有高导电性和高表面等离子体共振吸收特性,有望提高OLED的垂直导电性和发光亮度。
研究不足
高反应温度通常会导致沉积过程中器件层的破坏。然而,通过采用传统热蒸发技术并向系统中引入热丝,可以避免这一缺陷。
1:实验设计与方法选择
采用等离子体辅助热丝蒸发系统在ITO镀膜玻璃基底上沉积银纳米颗粒。沉积过程在自制真空反应腔中进行,该腔体连接13.56 MHz射频电源的射频电极,使用钨丝作为热丝蒸发银丝。
2:样品选择与数据来源
ITO镀膜玻璃基底经去离子水稀释的Decon 90清洗,并在60°C下超声处理60分钟。随后依次用去离子水、丙酮和异丙醇冲洗,最后用高纯氮气干燥。
3:实验设备与材料清单
日立SU8000扫描电镜、日本电子JEM-2100F透射电镜、帕纳科Empyrean X射线衍射仪、热电VG科学CLAM2电子能谱仪、紫外-可见-近红外分光光度计(Lambda 750,珀金埃尔默)、吉时利2420源测量单元。
4:实验流程与操作步骤
将基底置于腔体内,抽真空至最低压力约5×10?3 Pa。沉积前采用氢等离子体进行基底等离子体清洗(PC)。清洗后开启挡板开始沉积,基底温度控制在25°C至250°C之间。
5:数据分析方法
获取纳米颗粒的场发射扫描电镜(FESEM)图像,使用ImageJ软件分析颗粒尺寸、数量、面积填充率和颗粒间距。采集透射电镜(TEM)和高分辨透射电镜图像,记录X射线衍射(XRD)图谱,并通过X射线光电子能谱(XPS)分析ITO/玻璃基底上银纳米颗粒的化学氧化态。
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