研究目的
为克服直接激光写入（DLW）技术在3D打印多材料微/纳米结构时的局限性，提出了一种快速多材料DLW（RMM-DLW）策略。
研究成果
RMM-DLW策略能够以前所未有的速度和精度构建包含多种材料的复合微结构，为从根本上实现新型多材料（进而实现多功能）三维纳米结构系统提供了一条极具前景的途径。
研究不足
由于油浸模式双光子光刻工艺的限制，微结构高度被限制在约100-140微米或更短。显影步骤因真空压力过高而存在制造失败的风险。
1：实验设计与方法选择：
RMM-DLW策略采用临时性弹性体键合技术实现微通道的临时构建，用于系列加载、光聚合及不同光敏材料的显影。
2：样本选择与数据来源：
使用玻璃基底PDMS微流控器件构建临时微通道。
3：实验设备与材料清单：
Nanoscribe Photonic Professional GT双光子打印机、IP-S光刻胶、IP-L 780光刻胶、罗丹明标记IP-L 780、Ormocomp光刻胶、PDMS、硼硅酸盐玻璃基底。
4：Ormocomp光刻胶、PDMS、硼硅酸盐玻璃基底。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：制备负性微通道主模具、PDMS浇铸与固化、玻璃基底热键合、光敏材料真空加载、双光子直写加工、显影及PDMS移除。
5：数据分析方法：
量化对准精度与加工时间缩减效果。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
IP-L 780 photoresist
IP-L 780
Nanoscribe
Used for DLW fabrication of microstructures.
-
Ormocomp
Ormocomp
Nanoscribe
Used for DLW fabrication of microstructures.
-
IP-S photoresist
IP-S
Nanoscribe
Used for fabricating negative microchannel master molds.
-
Nanoscribe Photonic Professional GT
Photonic Professional GT
Nanoscribe, GmbH
Fabrication of negative microchannel master molds using Dip-in Laser Lithography (DiLL) mode DLW.
-
PDMS
Used for creating temporary microfluidic channels via thermal bonding to a glass substrate.
-
Borosilicate glass substrate
Used as a substrate for the PDMS microfluidic channels.
-
登录查看剩余4件设备及参数对照表
查看全部
