研究目的
通过热退火降低硅波导中的光传播损耗以提升光子平台性能的研究。
研究成果
对硅波导进行热退火处理能显著降低光传输损耗，在O波段实现了创纪录的低损耗值。该工艺可集成到现有光子平台流程中，且不会影响复杂器件的性能。
研究不足
该研究聚焦于O波段，在未经进一步调查的情况下可能不直接适用于其他波长。与先进光刻工具相比，该工艺的成本效益尚未得到充分探究。
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[IEEE 2019年第16届四族光子学国际会议(GFP) - 新加坡, 新加坡 (2019.8.28-2019.8.30)] 2019年IEEE第16届四族光子学国际会议(GFP) - 面向200毫米光子平台的超低损耗硅波导
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[IEEE 2019年第16届四族光子学国际会议(GFP) - 新加坡, 新加坡 (2019.8.28-2019.8.30)] 2019年IEEE第16届四族光子学国际会议(GFP) - 面向200毫米光子平台的超低损耗硅波导
DOI：10.1109/GROUP4.2019.8925610
出版年份：2019
更新时间：2025-09-12 10:27:22
摘要：
我们通过采用无形态变形的平滑退火工艺，在硅波导中实现了超低光学损耗。在单模波导中，我们在1310nm波长下达到了0.1 dB/cm的创纪录低损耗，同时保持了该平台其他器件的性能。
作者：
Quentin Wilmart，Cyril Bellegarde，Camille Petit-Etienne，Laurene Youssef，Jean-Michel Hartmann，Daivid Fowler，Stéphane Brision，Stéphanie Garcia，André Myko，Karen Ribaud，Philippe Grosse，Benoit Charbonnier，Stéphane Bernabé，Corrado Sciancalepore，Erwine Pargon，Bertrand Szelag
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