研究目的
研究用于光伏和光电探测器应用的胶体CdSeTe量子点(QDs)的可扩展喷涂涂层技术。
研究成果
喷涂工艺是一种极具前景的工业规模光电器件生产技术，在具有宽带响应、高响应度和高探测率的光电探测器中展现出卓越性能。
研究不足
该研究聚焦于量子点薄膜制备的喷涂工艺及其在光电探测器中的应用。局限性包括实现最佳性能所需的特定条件（40次喷涂循环）以及工业规模生产仍需进一步优化。
1：实验设计与方法选择：
本研究设计了一个喷涂平台，用于制备用于光电探测器的胶体三元CdSeTe量子点薄膜。采用水和乙醇的混合溶剂以增强量子点与基底界面的附着力。
2：样品选择与数据来源：
合成的胶体CdSeTe量子点作为活性材料使用。基底为经紫外臭氧处理的FTO玻璃。
3：实验设备与材料清单：
化学试剂包括硒粉、氧化镉、碲粉等。设备包括扫描电子显微镜（SU8020，日立公司）、紫外-可见分光光度计（Puxi-T10，普析通用）等。
4：实验步骤与操作流程：
合成量子点，进行配体交换，将量子点溶解于去离子水和乙醇的混合液中。随后在受控条件下将量子点喷涂到基底上。
5：数据分析方法：
基于电流密度-电压曲线、响应度、探测率和上升时间评估光电探测器性能。
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获取完整内容-
scanning electron microscope
SU8020
Hitachi Co.
Measuring the SEM images of QDs films
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TEM instrument
JEM-2010
Hitachi Co.
Measuring the TEM images of QDs
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X-ray diffractometer
PANalytical B.V.
PANalytical B.V.
Measuring the structure of the materials
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ultraviolet near-infrared spectrophotometer
Puxi-T10
PERSEE
Measuring the UV-vis absorption of QDs and films
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luminescence spectrometer
FL-380
GANGDONG
Measuring the PL of QDs
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multimeter
Keithley 2400
TE Connectivity
Measuring the current density-voltage curves
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xenon lamp
150 W
SOFN
Used in responsivity measurement
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monochromator
DK240
Spectral Products
Used in responsivity measurement
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electrochemical workstation
Chenhua
Measuring the current-time response
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