研究目的
基于飞秒激光刻写技术，在熔融石英中制造出一种由微流体控制全内反射实现的非易失性光功率开关。
研究成果
在熔融石英中展示的飞秒激光刻写非易失性光开关表现出良好效果，具有低插入损耗和宽带操作特性。通过优化开关几何结构和调整刻写参数可进一步降低损耗。该技术为高效光网络管理提供了一种潜在解决方案，具有静态功耗低和高可靠性优势。
研究不足
该开关的性能对微流控通道的粗糙度和侧壁角度较为敏感，这可能导致更高的损耗。制造过程需要精确控制飞秒激光刻写参数以最小化这些损耗。
1：实验设计与方法选择：
该开关由交叉波导和波导交叉处的微流控通道组成，采用飞秒激光刻写技术制备。其开关操作基于通道内介质的折射率变化。
2：样品选择与数据来源：
开关制备采用熔融石英基底。通过光学频域反射仪(OFDR)和功率传输测量对波导及通道进行表征。
3：实验设备与材料清单：
使用商用掺镱光纤激光器(Satsuma, Amplitude Systèmes)进行飞秒激光刻写。样品在30% KOH水溶液中蚀刻。
4：实验流程与操作步骤：
采用飞秒激光在熔融石英中刻写波导和通道，随后蚀刻形成微流控通道。使用1550 nm激光光源和光功率计表征开关光学性能。
5：数据分析方法：
通过OFDR测量获取波导传播损耗，测定开关插入损耗并计算反射与透射损耗。
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