研究目的
通过研究前驱体中的压应力与晶须生长之间的关系,以提高铋基超导晶须的晶体尺寸,从而满足实际应用需求。
研究成果
前驱体中的压应力是增大铋基超导晶须晶体尺寸的有效因素。应力控制法显著提升了晶须的尺寸和数量,表明其在高电流设备实际应用中具有潜力。
研究不足
该研究聚焦于压缩应力对晶须生长的影响,但未探究应力与其他可能进一步促进生长的添加剂或条件之间的协同效应。
研究目的
通过研究前驱体中的压应力与晶须生长之间的关系,以提高铋基超导晶须的晶体尺寸,从而满足实际应用需求。
研究成果
前驱体中的压应力是增大铋基超导晶须晶体尺寸的有效因素。应力控制法显著提升了晶须的尺寸和数量,表明其在高电流设备实际应用中具有潜力。
研究不足
该研究聚焦于压缩应力对晶须生长的影响,但未探究应力与其他可能进一步促进生长的添加剂或条件之间的协同效应。
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