研究目的
通过采用简单的二元模具，利用紫外辅助纳米压印光刻（NIL）技术直接制备等离激元色彩，并通过战略性模具设计利用聚合物抗蚀剂的纳米流体行为，在单次压印中实现对间隙距离的控制。
研究成果
该研究成功展示了一种通过特制两步纳米压印模具单次打印实现薄膜与纳米天线间等离子体耦合调控的方法，从而产生宽色域的等离子体着色效果。该方法可在纳米压印过程中定制多密度模具中的抗蚀剂填充机制，为等离子体器件制备提供了新途径。
研究不足
该研究承认了电子束光刻（EBL）等传统制造方法在控制金属-绝缘体-金属（MIM）结构垂直间隙尺寸方面的复杂性。所提出的紫外纳米压印光刻（UV-NIL）方法提供了解决方案，但可能需要针对不同图案密度的均匀打印深度进行优化。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用紫外辅助纳米压印光刻技术（NIL）结合二元模具制备等离激元表面，以控制金属-绝缘体-金属（MIM）结构中的垂直间隙尺寸。
2：样本选择与数据来源：
硅主模具通过电子束光刻（EBL）和反应离子刻蚀（RIE）制备。
3：实验设备与材料清单：
设备包括EBL、RIE、紫外纳米压印工具及用于金属镀膜的电子束蒸发系统；材料包含硅晶圆、PMMA A4薄膜、铝掩模层、紫外固化光刻胶及银膜。
4：实验流程与操作步骤：
工艺流程包括模具制备、光刻胶涂覆、紫外压印图案化及金属沉积。
5：数据分析方法：
通过反射光谱和扫描电镜成像进行光学表征，分析等离激元显色效果与纳米结构形貌。
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