研究目的
为解决微透镜阵列（MLA）周期性导致的匀化光斑中出现干涉条纹、严重影响光斑均匀度的问题，提出一种新型随机微透镜阵列（rMLA）结构以实现光束匀化。
研究成果
该论文提出了一种结合化学蚀刻与光刻技术制备随机微透镜阵列（rMLA）的方法，以打破微透镜阵列的周期性，抑制匀化过程中的相干性，从而获得高能量利用率的匀化光斑。经测量，圆形光斑的均匀度约为81%，矩形光斑的均匀度约为88%。两类rMLA匀化光斑的能量利用率均达到约90%。所设计的rMLA有望应用于激光焊接机、医疗、曝光机照明系统等领域。
研究不足
连续rMLA的制造技术尚未成熟。采用基础化学蚀刻溶液制备的rMLA表面不够光滑，粗糙度达106纳米，在光束匀化过程中会产生大量杂散光，严重影响匀化光斑的均匀性。
1：实验设计与方法选择：
提出一种新型随机微透镜阵列（rMLA）结构用于光束匀化。通过打破微透镜阵列的周期性来抑制匀化过程中的相干性。采用化学蚀刻与光刻技术相结合的方法制备蜂窝状rMLA和矩形rMLA。
2：样品选择与数据来源：
选用超白玻璃作为基底材料，所选基底主要成分为SiO2，含量为73%。
3：实验设备与材料清单：
配制了三种不同的化学蚀刻溶液?；纯倘芤撼煞职ㄈダ胱铀?、氢氟酸溶液（HF溶液，40%）和氟化铵颗粒（NH4F），称为基础化学蚀刻溶液，各成分比例为10:3:1。
4：实验步骤与操作流程：
制备过程需要对玻璃基底表面进行预处理——即在基底表面制备不同结构的随机微孔阵列。对于蜂窝状rMLA的制备，首先在玻璃基底上涂覆约140 nm厚的铬膜，然后将玻璃基底放入铬去除溶液中浸泡10秒以在铬膜上蚀刻一系列随机微孔。将预处理后的基底放入化学蚀刻溶液中制备蜂窝状rMLA。
5：数据分析方法：
使用特定公式计算光斑均匀度，其中圆形光斑和矩形光斑的均匀度分别约为81%和88%。功率计测量的输入光束功率约为3.5 mW，经过蜂窝状rMLA和矩形rMLA后的输出功率均约为3.2 mW。
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