研究目的
首次展示利用原子层沉积系统制备包层光剥离器件，该器件通过在光纤上生长氧化锆层来移除高功率光纤激光器中不需要的包层光。
研究成果
光纤上通过原子层沉积法生长的氧化锆薄膜能有效剥离杂散包层光，其中8.5厘米和15.5厘米长度的器件分别能剥离约30%和40%的光。该技术可实现异质结构薄膜的生长，有望提升器件性能。
研究不足
该研究表明采用原子层沉积技术（ALD）制备连续激光器（CLS）具有可行性，但指出其性能在高功率应用中仍有提升空间。当增大输入功率时，效率变化幅度小于±5%。
1：实验设计与方法选择：
采用原子层沉积（ALD）技术在光纤上生长氧化锆薄膜以制备包层光剥离器。
2：样本选择与数据来源：
使用去除聚合物涂层的裸光纤。
3：实验设备与材料清单：
四(二甲氨基)锆前驱体、光纤（LMA-GDF 20/400-M）、扫描电镜（SEM）、波长色散光谱仪（WDS）、椭偏仪、紫外-可见吸收光谱仪、光致发光光谱仪、拉曼光谱仪、X射线衍射仪（XRD）。
4：实验步骤与操作流程：
通过前驱体升华并与H2O氧化反应，在光纤表面沉积氧化锆薄膜。
5：数据分析方法：
采用SEM和椭偏仪确认薄膜厚度，WDS进行元素分析，拉曼光谱与XRD进行结构分析。
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WDS
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