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光伏发电不确定性下的数据驱动型家庭能源调度策略

DOI：10.1109/ACCESS.2020.2980850 期刊：IEEE Access 出版年份：2020 更新时间：2025-09-23 15:19:57
摘要： 我们报道了采用铍离子注入工艺制备的InAs平面雪崩光电二极管（APD）。该平面APD具有2×101? cm?3的低本底掺杂浓度和接近8微米的大耗尽宽度。在200K温度下施加-26V电压时，这种厚耗尽结构实现了330倍增益且未引发显著隧穿电流。器件内部未观测到边缘击穿现象。表面漏电流较低，在200K温度、-20V偏压条件下，其归一化暗电流密度仅为400 μA/cm2（增益条件下）。
作者： Benjamin S. White，Ian C. Sandall，Xinxin Zhou，Andrey Krysa，Kenneth McEwan，John P. R. David，Chee Hing Tan
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

报道了采用铍离子注入工艺制备的InAs平面雪崩光电二极管（APD），该器件实现了高增益且无明显隧穿电流及低表面漏电流的特性。

研究成果

采用铍离子注入工艺制备的平面InAs雪崩光电二极管（APD）表现出低表面漏电流特性，在200K温度下仍呈现以扩散机制为主的暗电流。器件实现了2×101? cm?3的低本底掺杂浓度和8μm的耗尽层宽度，在-26V偏压、200K条件下获得330倍增益且未产生显著隧穿电流。渐变p型掺杂结构有效抑制了APD边缘击穿现象。

研究不足

表面漏电流仍然显著，尤其是在低温或小型器件中。平面雪崩光电二极管中本底掺杂的来源尚未确定。

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