研究目的
研究衬底温度对脉冲激光沉积法制备的氧化铋薄膜形貌、结构及光学性能的影响。
研究成果
衬底温度显著影响氧化铋薄膜的结构、形貌和光学特性。较高温度能提升结晶度和透光率，但会降低折射率。由于具有复杂的能带结构，这些薄膜在光电子应用方面展现出潜力。
研究不足
该研究仅限于衬底温度对脉冲激光沉积法制备的氧化铋薄膜的影响，未探讨其他沉积参数及其相互作用。
1：实验设计与方法选择
采用脉冲激光沉积法(PLD)在受控氧气氛中，于不同温度(300-600°C)条件下在BK7玻璃基底上生长氧化铋薄膜。
2：样品选择与数据来源
使用高质量BK7玻璃载玻片作为基底。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计对薄膜进行表征。
3：实验设备与材料清单
紫外纳秒脉冲激光器、纯铋靶材(99.99%，Sigma-Aldrich)、MII-4林尼克型干涉显微镜、DRON-3衍射仪、珀金埃尔默Lambda 35分光光度计。
4：实验流程与操作步骤
清洁基底并加热至目标温度，采用PLD法沉积薄膜后，对其厚度、结构、形貌及光学特性进行表征。
5：数据分析方法
采用XRD进行结构分析，AFM研究形貌特征，分光光度计测定光学性能，并运用Wemple-DiDomenico模型计算能带隙和色散能量。
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获取完整内容-
Pure bismuth target
99.99%
Sigma-Aldrich
Source material for the deposition of bismuth oxide thin films.
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Perkin Elmer Lambda 35 spectrophotometer
Lambda 35
Perkin Elmer
Transmittance and reflectance measurements of the films.
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UV nanosecond pulsed laser
Used for pulsed laser deposition of bismuth oxide thin films.
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MII-4 Linnik-type interferential microscope
MII-4
Measurement of film thickness using the multiple-beam Fizeau fringe method.
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DRON-3 diffractometer
DRON-3
Structural analysis of the films through X-ray diffractometry.
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