研究目的
研究低能离子轰击对在高离子通量条件下使用高密度表面波等离子体源沉积的六方氮化硼(hBN)薄膜结构的影响。
研究成果
研究表明,在高离子通量条件下,随着离子能量降低,六方氮化硼(hBN)薄膜中sp2键合相的结构有序度和结晶度可得到提升,同时保持高质量密度。这说明低能离子辐照能有效调控等离子体增强化学气相沉积(PECVD)过程中hBN薄膜的结构。
研究不足
该研究聚焦于特定离子能量和通量条件下hBN薄膜的结构特性,未探究其他沉积参数的影响及该工艺在工业应用中的可扩展性。
研究目的
研究低能离子轰击对在高离子通量条件下使用高密度表面波等离子体源沉积的六方氮化硼(hBN)薄膜结构的影响。
研究成果
研究表明,在高离子通量条件下,随着离子能量降低,六方氮化硼(hBN)薄膜中sp2键合相的结构有序度和结晶度可得到提升,同时保持高质量密度。这说明低能离子辐照能有效调控等离子体增强化学气相沉积(PECVD)过程中hBN薄膜的结构。
研究不足
该研究聚焦于特定离子能量和通量条件下hBN薄膜的结构特性,未探究其他沉积参数的影响及该工艺在工业应用中的可扩展性。
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