研究目的
研究掺镓氧化锌（GZO）特性对薄膜厚度的影响。
研究成果
不同厚度下沉积的GZO薄膜成功制备于玻璃基底上。结构分析表明所有GZO薄膜均为多晶结构并呈现(002)择优取向。随着厚度增加，估算的GZO薄膜晶粒尺寸增大，表明薄膜晶体质量得到改善。光学透射谱分析显示薄膜完全透明且具有高透光率，其光学带隙值处于3.30-3.50 eV范围内。研究表明厚度对GZO薄膜表面形貌具有显著影响。结论指出GZO薄膜的生长特性、结构、光学性能及表面形貌均与薄膜厚度密切相关。
研究不足
该研究聚焦于薄膜厚度对GZO薄膜生长特性、结构、光学性能及表面形貌的影响，未探究不同掺杂浓度或衬底材料等其他因素。
1：实验设计与方法选择：
采用纯度为99.99%的GZO陶瓷靶材，通过射频磁控溅射在玻璃基板上沉积GZO薄膜。通过调整沉积时间（10分钟至50分钟）改变薄膜厚度。
2：99%的GZO陶瓷靶材，通过射频磁控溅射在玻璃基板上沉积GZO薄膜。通过调整沉积时间（10分钟至50分钟）改变薄膜厚度。 样品选择与数据来源：
2. 样品选择与数据来源：使用玻璃基板（尺寸7.62厘米×2.54厘米×0.10厘米）。
3：62厘米×54厘米×10厘米）。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：射频磁控溅射仪、GZO陶瓷靶材、Branson 3200超声波清洗机、NanoLab 550轮廓仪、X射线衍射仪（Philips Expert Pro）、紫外-可见分光光度计Lambda 25。
4：实验步骤与操作流程：
使用Branson 3200超声波清洗机清洁基板。溅射工艺参数为射频功率100瓦，氩气流量10 sccm。
5：数据分析方法：
分别采用NanoLab 550轮廓仪、X射线衍射仪（Philips Expert Pro）和紫外-可见分光光度计Lambda 25测试GZO薄膜的厚度、表面形貌、结构及光学特性。
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RF Magnetron Sputtering
Deposition of GZO films on glass substrate
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GZO ceramic target
advanced technology material
Sputter target material
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Ultrasonic Branson 3200 Cleaner
3200
Branson
Cleaning of substrates
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Profilometer NanoLab 550
550
NanoLab
Measurement of film thickness and surface morphology
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XRD (X-ray Diffraction Philips Expert Pro)
Expert Pro
Philips
Structural analysis of GZO films
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UV-Vis spectrometer Lambda 25
Lambda 25
Optical properties analysis of GZO films
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