研究目的
为解决紫外纳米压印光刻（UV-NIL）固化过程中因强粘附力导致图案保真度受影响及脱模过程产生缺陷的电阻体积收缩问题。
研究成果
基于DB-TOSU与环氧单体共聚的新型紫外光固化抗蚀剂，能有效降低紫外纳米压印中的体积收缩和脱模力，具有实现高保真图案复制及减少脱模缺陷的潜力。需进一步优化以实现兼具低收缩率与高机械强度的抗蚀剂配方。
研究不足
由于表面能高且粘度低，该光刻胶无法通过旋涂形成均匀薄膜；而使用60 wt.% DB-TOSU时，因光刻胶弹性模量极低，也无法实现高质量图案转移。
1：实验设计与方法选择：
本研究合成了液体螺环原碳酸酯单体（DB-TOSU），并将其以不同重量比与传统环氧单体混合制备紫外光固化抗蚀剂配方。对抗蚀剂配方的体积收缩率、弹性模量和脱模力进行了表征。
2：样品选择与数据来源：
将合成的DB-TOSU与环氧单体及光酸产生剂（PAG）混合，制备不同抗蚀剂配方。
3：实验设备与材料清单：
使用UV LED光源进行固化，万能试验机测量脱模力，纳米压痕仪测量弹性模量。
4：实验步骤与操作流程：
通过观察紫外固化前后抗蚀剂液滴接触角的变化测量体积收缩率；采用纳米压痕法测量弹性模量；利用光刻或电子束光刻制备的模具进行纳米压印和脱模力测试。
5：数据分析方法：
基于接触角变化计算体积收缩率，直接测量并分析弹性模量与脱模力。
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