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去润湿机制及其在大规模制备先进纳米光子系统中的应用

DOI:10.1080/09506608.2018.1543832 期刊:International Materials Reviews 出版年份:2018 更新时间:2025-09-04 15:30:14
摘要: 亚微米和纳米制造技术的最新进展催生了光学纳米天线和超表面等新型光子结构。这些先进光子结构的实际应用仍需在制造工艺的通量与成本效益方面进行大幅改进。由于具有操作简便和效果显著的特点,薄膜去润湿技术因其提升可扩展性和生产率的可行性而日益受到关注。本文综述了去润湿的机理与现象学特征,以增进对优化去润湿工艺条件和模板设计所需基础原理的理解。随后我们评述了利用模板化去润湿技术制备排列整齐的亚微米/纳米结构阵列的策略——这些结构在尺寸、形貌和排布上都具有精确可控性。重点探讨了去润湿结构在先进纳米光子学中的最新应用,尤其关注去润湿机理的开发利用。特别着眼于高重复性和高通量至关重要的应用场景:包括谐振光学纳米天线的制备,以及传感、着色、光伏和非线性光频转换等纳米光子学应用。我们期望本综述能为利用薄膜去润湿技术实现各类实用先进光子系统的工业化制备奠定基础。
作者: Jongpil Ye,Dmitry Zuev,Sergey Makarov
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研究概述 实验方案 设备清单

概述去润湿的机制和现象学,以提高先进光子结构制造工艺的可扩展性和生产率。

该综述得出结论:去润湿是一种极具前景的高通量、低成本先进光子结构制备方法。研究强调了模板化去润湿技术在制备尺寸、形貌及排列可控的纳米结构有序阵列方面的潜力,并为工业化应用提出了未来研究方向。

该综述指出,在去润湿过程中,为了实现可扩展性和成本效益,往往牺牲了对纳米颗粒尺寸和空间分布的精确控制。此外,通过模板化步骤来实现有序纳米结构的需求可能会增加复杂性并降低产量。

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