研究目的
研究金属氧化物/羟基氧化物覆盖层作为光阳极水分解中空穴收集剂和析氧催化剂的作用。
研究成果
结果表明,对于多种半导体(BiVO4、Fe2O3、Si)和催化剂(CoPi、Ni(Fe)OxHy)体系,催化剂覆盖层既充当空穴收集器,又是水氧化的反应位点。该催化剂达到的电化学势足以以与实测光电流相同的速率驱动析氧反应(OER)。
研究不足
所述技术无法测量表面态密度,也无法评估催化剂材料对表面态钝化可能产生的影响。这些测量仅能确定表面电位及到达催化剂的光生电荷量。
研究目的
研究金属氧化物/羟基氧化物覆盖层作为光阳极水分解中空穴收集剂和析氧催化剂的作用。
研究成果
结果表明,对于多种半导体(BiVO4、Fe2O3、Si)和催化剂(CoPi、Ni(Fe)OxHy)体系,催化剂覆盖层既充当空穴收集器,又是水氧化的反应位点。该催化剂达到的电化学势足以以与实测光电流相同的速率驱动析氧反应(OER)。
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所述技术无法测量表面态密度,也无法评估催化剂材料对表面态钝化可能产生的影响。这些测量仅能确定表面电位及到达催化剂的光生电荷量。
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