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Ta<sub>3</sub>N<sub>5</sub>/Co(OH)<sub>x</sub>复合材料作为光催化用于光电化学水分解

DOI:10.1039/c8pp00312b 期刊:Photochemical & Photobiological Sciences 出版年份:2019 更新时间:2025-09-04 15:30:14
摘要: 通过两步阳极氧化法直接在钽箔上生长Ta2O5纳米管(NTs),再经氮化处理获得Ta3N5纳米管。负载Co(OH)x后,在AM1.5G模拟太阳光下实现了高达2.3 mA cm?2(1.23 V vs. NHE)的光电流密度,但该电极存在光腐蚀问题。采用先负载Co(OH)x、再负载磷酸钴(Co–Pi)的双助催化剂策略,获得了更稳定的光电化学(PEC)性能。Co(OH)x/Co–Pi双助催化剂可能作为空穴存储层,减缓了电极表面积累空穴导致的光腐蚀。观察到Ta2O5纳米管"开口"附近呈现"摆动"形态,这可能表明"开口"区域结构不稳定——氮化后会断裂成片段并形成破碎的Ta3N5纳米管顶层。本文首次报道了Ta3N5纳米管管壁具有独特的介孔结构,该结构也是氮化过程的产物。我们认为这种介孔结构使得纳米管难以被助催化剂层完全覆盖,从而合理解释了残留的光腐蚀降解现象。
作者: Kaiqi Xu,Mathieu Grandcolas,Truls Norby,Athanasios Chatzitakis,Ingvild Julie Thue Jensen
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研究概述 实验方案 设备清单

研究Co(OH)x和Co–Pi共催化剂修饰的Ta3N5纳米管的光电化学水分解性能与稳定性。

负载Co(OH)x/Co–Pi双助催化剂的Ta3N5纳米管表现出增强的光电化学性能和稳定性。然而,Ta3N5纳米管独特的介孔结构对实现助催化剂均匀覆盖构成挑战,这表明需要更优的沉积方法来进一步提升稳定性。

Ta3N5纳米管的中孔结构使得共催化剂难以实现完全覆盖,从而导致残留的光腐蚀问题。高光电化学性能的稳定性难以维持。

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