研究目的
研究不同Ce:Ti比例下磁控溅射Ce/Ti氧化物薄膜在Si(100)晶圆上结构与力学性能的变化。
研究成果
铈/钛氧化物薄膜的力学性能受Ce:Ti比例影响,纯氧化铈表现出最高的硬度和杨氏模量。与氧化钛混合会降低硬度并减小晶粒尺寸。该薄膜在高达1000°C时仍具有高热稳定性,且水接触角主要受表面粗糙度而非化学成分影响。有限元建模显示应力随不同基底和薄膜厚度而变化。
研究不足
该研究仅限于特定的Ce:Ti比例和Si(100)衬底;虽然注意到偏压变化可能导致的潜在差异,但未作探究;XPS中的表面污染可能影响结果;有限元建模假设了某些参数,这些参数可能无法涵盖所有现实复杂性。
1:实验设计与方法选择:
研究采用磁控溅射进行沉积,使用XPS和XRD进行化学与结构分析,FESEM观察形貌,纳米压痕测试力学性能,FEM进行应力建模,接触角测量评估润湿性。
2:样本选择与数据来源:
四种不同Ce:Ti比例(纯CeO2、纯TiO2及两种混合物)的样品,沉积于Si(100)晶圆上。
3:纯TiO2及两种混合物)的样品,沉积于Si(100)晶圆上。 实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:TEER UDP 650/4磁控溅射系统、Kratos AXIS Ultra DLD XPS系统、配备Anton Paar DHS110炉的Rigaku Smartlab XRD仪、Zeiss Neon 40EsB FESEM系统、Cressington 208HR溅射镀膜仪、配备金刚石Berkovich压头的Ultra-Micro Indentation System 2000、COMSOL Multiphysics软件、FTA1000液滴形状分析仪。
4:COMSOL Multiphysics软件、FTA1000液滴形状分析仪。 实验流程与操作步骤:
4. 实验流程与操作步骤:清洗并干燥基底,在受控参数下沉积薄膜,进行XPS和XRD扫描,铂涂层后FESEM成像,通过载荷控制开展纳米压痕测试,生成FEM模型,用水滴进行接触角测量。
5:数据分析方法:
校准并拟合XPS数据峰位,识别XRD物相,采用线性截距法计算晶粒尺寸,从纳米压痕数据推导硬度和杨氏模量,FEM分析应力分布,使用液滴形状分析软件计算接触角。
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获取完整内容-
XPS system
AXIS Ultra DLD
Kratos
Surface chemistry analysis using X-ray photoelectron spectroscopy
-
X-ray diffraction machine
Smartlab
Rigaku
Structural analysis using X-ray diffraction, equipped with furnace for high-temperature studies
-
furnace
DHS110
Anton Paar
High-temperature heating for in-situ XRD experiments
-
FESEM system
Neon 40EsB CROSS-BEAM
Zeiss
Imaging surface morphology of films
-
software
COMSOL Multiphysics
COMSOL
Finite element modeling of stress distributions
-
drop shape analysis instrument
FTA1000
First Ten Angstroms
Measuring water contact angles
-
magnetron sputtering system
UDP 650/4
TEER
Deposition of Ce/Ti oxide thin film coatings
-
sputter coater
208HR
Cressington
Coating samples with platinum to improve conductivity for FESEM
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nanoindentation workstation
Ultra-Micro Indentation System 2000
CSIRO
Measuring mechanical properties like hardness and Young's modulus
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