1：实验设计与方法选择：

本研究采用溶胶-凝胶浸渍涂覆法在聚碳酸酯基材上沉积GPTMS-二氧化硅纳米杂化涂层，随后通过PFTS表面改性赋予疏水性。表征方法包括场发射扫描电镜(FE-SEM)、能谱分析(EDS)、原子力显微镜(AFM)、衰减全反射傅里叶变换红外光谱(ATR-FTIR)、紫外-可见-近红外分光光度计(UV-vis-NIR)、水接触角分析、胶带剥离测试、铅笔硬度测试及自清洁性能评估。

2：样品选择与数据来源：

使用聚碳酸酯基材（5.00×5.00 cm2）。材料包括GPTMS、EDA、乙醇、HCl、二氧化硅纳米颗粒（20 nm）和PFTS，购自Merck、Technan和Aldrich公司。

3：00×00 cm2）。材料包括GPTMS、EDA、乙醇、HCl、二氧化硅纳米颗粒（20 nm）和PFTS，购自Merck、Technan和Aldrich公司。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备：场发射扫描电镜(Hitachi S4160)、能谱仪、原子力显微镜(DS95-200)、衰减全反射傅里叶变换红外光谱仪(Bruker Tensor 27)、紫外-可见-近红外分光光度计(岛津UV-3100)、水接触角分析仪、等离子体刻蚀机(Plasma Fanavar Co，13.56 MHz)、超声波清洗器。材料：GPTMS、EDA、乙醇、HCl、二氧化硅纳米颗粒、PFTS、聚碳酸酯基材。

4：0)、能谱仪、原子力显微镜(DS95-200)、衰减全反射傅里叶变换红外光谱仪(Bruker Tensor 27)、紫外-可见-近红外分光光度计(岛津UV-3100)、水接触角分析仪、等离子体刻蚀机(Plasma Fanavar Co，56 MHz)、超声波清洗器。材料：

4. 实验流程与操作步骤：基材经清洁后进行氧等离子体刻蚀（200 W，0.5托，4 sccm，10分钟），随后浸入杂化溶胶中涂覆（浸渍10秒，提拉速度2 mm/s），80°C干燥60分钟，再浸入PFTS溶胶改性5分钟（提拉速度3 mm/s），80°C干燥30分钟，改性前额外进行氩等离子体刻蚀（200 W，0.3托，4 sccm，30分钟）。所有表征均在处理后进行。

5：实验流程与操作步骤：

5. 数据分析方法：通过光谱、显微及接触角测量数据分析涂层性能，包括形貌、成分、粗糙度、透光率、硬度、附着力及疏水性。