研究目的
采用分子动力学(MD)方法模拟铜纳米颗粒墨水的强脉冲光(IPL)烧结过程,计算颈部长大情况,测算电阻率,并与实验结果对比以优化IPL烧结工艺。
研究成果
MD模型有效模拟了烧结过程,初期呈现颈部快速生长和电阻率下降,随后变化趋缓。该模型的温度依赖性电阻率与实验结果高度吻合,表明其可用于优化IPL烧结工艺。
研究不足
该模型仅限于双粒子系统,无法解释实验中观察到的高光强下气泡形成导致的孔隙效应。其假设等温条件,且未模拟包含光相互作用的完整IPL过程。
研究目的
采用分子动力学(MD)方法模拟铜纳米颗粒墨水的强脉冲光(IPL)烧结过程,计算颈部长大情况,测算电阻率,并与实验结果对比以优化IPL烧结工艺。
研究成果
MD模型有效模拟了烧结过程,初期呈现颈部快速生长和电阻率下降,随后变化趋缓。该模型的温度依赖性电阻率与实验结果高度吻合,表明其可用于优化IPL烧结工艺。
研究不足
该模型仅限于双粒子系统,无法解释实验中观察到的高光强下气泡形成导致的孔隙效应。其假设等温条件,且未模拟包含光相互作用的完整IPL过程。
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