研究目的
采用改进的模板法在硅表面获得有序排列的铂和钯纳米线阵列。
研究成果
采用可扩展的液相模板法成功在改性硅表面制备了铂和钯纳米线的有序阵列。尽管铂的尺寸相较于催化标准更大，该体系在透明导电层中的纳米线网络等应用方面仍具吸引力。
研究不足
铂纳米线的几何尺寸超过了催化应用领域的世界纪录，且该方法可能存在温度敏感性——当温度低于26°C或高于30°C时，会因溶液变化和胶束气泡形成而产生困难。
1：实验设计与方法选择：
采用水相自下而上的模板法，通过APTMS表面改性和CTAB胶束模板引导金属定向沉积。
2：样品选择与数据来源：
使用硅基底（经APTMS改性），试剂购自Sigma-Aldrich。
3：实验设备与材料清单：
原子力显微镜MultiMode V及RTESP悬臂（Veeco）、液池（Veeco MMTMEC型号）、帕尔贴装置、Digi-Sense热电偶温度计、扫描电镜-能谱仪（卡尔蔡司EVO LS 10）、接触角测量仪（KRüSS DSA30），化学试剂包括CTAB、六氯铂酸六水合物(H2PtCl6·6H2O)、氯化钯(PdCl2)、水合肼、硫酸(H2SO4)、过氧化氢(H2O2)、97% APTMS（Gelest公司）、甲醇。
4：0）、接触角测量仪（KRüSS DSA30），化学试剂包括CTAB、六氯铂酸六水合物(H2PtCl6·6H2O)、氯化钯(PdCl2)、水合肼、硫酸(H2SO4)、过氧化氢(H2O2)、97% APTMS（Gelest公司）、甲醇。 实验步骤与操作流程：
4. 实验步骤与操作流程：用H2SO4/H2O2混合液氧化硅表面后进行APTMS改性，滴加CTAB与金属前驱体溶液静置30分钟，以水合肼还原并清洗干燥，通过原子力显微镜和扫描电镜-能谱仪表征。
5：数据分析方法：
通过原子力显微镜图像分析形貌、扫描电镜-能谱仪测定元素组成、接触角测试获得表面特性，对形貌参数进行统计分析。
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Atomic Force Microscope
MultiMode V
Veeco
Reveal the morphology of metal systems through imaging.
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Cantilever
RTESP
Veeco
Used with AFM for scanning samples with silicone tips.
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Fluid Cell
MMTMEC
Veeco
Hold surfactant solutions for imaging at solid/liquid interface in AFM.
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SEM-EDS
EVO LS 10
Carl Zeiss
Investigate elemental composition of samples with EDS detector.
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Peltier Device
Vary liquid temperature in fluid cell experiments.
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Thermocouple Thermometer
Digi-Sense
Measure temperature in experiments.
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Contact Angle Goniometer
DSA30
KRüSS
Determine static wetting contact angle by sessile drop method.
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Antivibrational System
SG0508
Eliminate external distortions in AFM measurements.
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