研究目的
研究在采用松散抛光粉加工光电子元件时，磨屑颗粒与抛光磨粒碎屑之间的相互作用机制。
研究成果
碎屑与磨粒之间的相互作用导致散射角为136.8°至173.2°，有效微分散射截面为0.4至1.8 Tb。粒子轨迹在工件表面附近形成环状，表明粒子在近似于平均晶粒半径的区域内"滚过"表面，这与经典抛光概念相符。
研究不足
该研究基于特定材料（氮化铝和立方氮化硼）及条件；结果可能不适用于其他材料或抛光参数。建模采用了理想化条件，可能无法完全反映现实复杂性。
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光电子元件抛光过程中碎屑颗粒与抛光粉磨粒的相互作用
DOI：10.3103/S1063457618040081
期刊：Journal of Superhard Materials
出版年份：2018
更新时间：2025-09-23 15:23:52
摘要：
对碎屑颗粒与抛光粉磨粒之间相互作用的分析表明，颗粒散射角度范围为136.8°至173.2°，有效微分散射截面为0.4至1.8 Tb?？帕９旒３驶纷捶植加诠ぜ砻娓浇颍们蚝穸冉频扔谂坠夥鄣钠骄Я０刖?。
作者：
Yu. D. Filatov
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