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石墨烯/镍界面的双路径加氢反应

DOI:10.1021/acsnano.8b07996 期刊:ACS Nano 出版年份:2019 更新时间:2025-09-23 15:23:52
摘要: 基于石墨烯/金属界面的纳米结构架构,因其能在石墨烯表层和插层后的金属基底两侧同时提供吸附位点,在储氢领域具有高效应用潜力。我们结合原位高分辨X射线光电子能谱、扫描隧道显微镜与理论计算,确定了室温下石墨烯/Ni(111)界面氢原子的排布方式。结果表明:低覆盖度时氢原子主要以单原子形式吸附,当表面约25%被氢化时化学吸附达到饱和;同时以更低速率发生的氢原子插层会与Ni表面位点结合。插层过程会逐步破坏C-H键并引发石墨烯化学吸附氢的释放。价带与近边吸收光谱证实,当Ni表面氢饱和时石墨烯层完全剥离。通过程序升温脱附法测定氢化界面的稳定性发现:石墨烯化学吸附的氢原子在宽温域内保持稳定,而插层相会在室温以上50-100K温度区间突然脱附。
作者: Daniel Lizzit,Mario I. Trioni,Luca Bignardi,Paolo Lacovig,Silvano Lizzit,Rocco Martinazzo,Rosanna Larciprete
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研究概述 实验方案 设备清单

确定室温下石墨烯/Ni(111)界面处氢原子的排列方式,并研究其储氢潜力。

氢化通过双重途径发生:在石墨烯上化学吸附直至达到0.20-0.25 MLGr饱和度,以及在石墨烯下方较慢地嵌入镍位点。嵌入作用会破坏化学吸附的氢,导致其释放?;降那庠谠?00 K脱附,而嵌入的氢则在400 K突然脱附。当镍表面被氢饱和时,石墨烯完全剥离,从而增强室温以上的储氢稳定性。

该研究仅限于室温下的石墨烯/Ni(111)界面;插层机制尚未完全阐明,且氢原子向镍基体内部的次表面扩散需要进一步研究。氢通量包含原子和分子,其解离比例存在不确定性。

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