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TiO?纳米管内致密M?S?薄膜的共形填充构建三维异质结:阴离子效应

DOI:10.1002/celc.201801380 期刊:ChemElectroChem 出版年份:2019 更新时间:2025-09-23 22:39:31
摘要: 将其他半导体材料填充至二氧化钛(TiO?)纳米管阵列中以形成具有交错特征的立体异质结结构颇具吸引力。这种结构得益于大面积的界面区域可实现快速电荷分离,以及有序的垂直通道有利于定向电荷传输。然而,如何以致密且共形的方式填充纳米管仍是重大挑战。本研究采用连续离子层吸附与反应法,用硫化锌(ZnS)对TiO?纳米管进行了共形填充。当使用硝酸盐与醋酸盐前驱体溶液时,ZnS分别以离散纳米颗?;蛑旅鼙∧さ男问酱嬖凇夤橐蛴诖姿嵫卧谒芤褐械乃夤袒崾头哦钔馇庋醺胱?,从而促进薄膜形成。由ZnS致密薄膜产生的CuS/TiO?异质结因其交错结构展现出更优的整流特性。这种致密薄膜的共形填充工艺还可用于构建其他M?S?/TiO?体相异质结,应用于光电子学、光伏技术、光催化等领域。
作者: Xiaoli Zhao,Yu Jin,Chengjie Xiang,Jian Jin,Mei Ding,Sujuan Wu,Chuankun Jia,Lidong Sun
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研究概述 实验方案 设备清单

采用溶液法实现TiO2纳米管内致密ZnS薄膜的共形填充,并研究阴离子前驱体对形成致密薄膜与离散纳米颗粒的影响,从而制备出性能更优的三维异质结,应用于光电子学和光伏领域。

采用醋酸锌前驱体实现了TiO?纳米管内致密ZnS薄膜的共形填充,这归因于水解反应释放的氢氧根离子促进了成膜过程。由此形成的CuS/TiO?异质结具有更优异的整流特性(理想因子3.4,反向饱和电流密度5.6×10?? A/cm2,在±1V电压下整流比达21),这是由于致密薄膜中空穴散射减少所致。该方法在光电器件领域具有应用前景,并可通过离子交换拓展至其他硫化物体系。

该研究依赖于特定的前驱体溶液和SILAR方法,可能并非适用于所有材料。该过程需要多个步骤并仔细控制参数。虽然提到了原子层沉积技术,但由于其复杂性未被采用,这表明在简易性与薄膜质量之间存在权衡。整流性能虽有所改善,但理想因子仍高于理想值(3.4对比1-2),说明在电荷传输和复合抑制方面仍有优化空间。

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