纳米技术的化学气相沉积 || 石墨烯常压化学气相沉积

摘要： 近年来，石墨烯因其卓越的导电性、机械强度和热稳定性等特性备受关注。在各种石墨烯制备方法中，常压化学气相沉积（APCVD）因其极低的扩散系数成为最佳合成方法之一，这也是石墨烯基器件制备的关键步骤。用于薄膜生产的高温APCVD工艺在固态电子器件等诸多技术领域日益受到重视，特别是能为硅双极型和金属氧化物半导体（MOS）晶体管提供高质量外延半导体薄膜?；谑┑钠骷谌嵝缘缱?、光电子和能量收集等领域展现出巨大应用潜力。本章将重点介绍基于APCVD的石墨烯合成最新进展及其相关应用。