光纤与硅波导间光栅耦合器的制造公差分析

摘要： 研究了光纤与硅基波导耦合的光栅结构及其性能。通过光栅布拉格衍射条件阐述了耦合机理，并采用时域有限差分法（FDTD）分析了光栅耦合器物理参数与对准参数对耦合效率的影响?；竦昧斯庹ゑ詈掀髦芷?、占空比、刻蚀深度及对准参数的最优设计值，同时进行了最优尺寸的偏差分析。通过器件尺寸工艺优化，我们展示了采用电子束光刻（EBL）和深硅刻蚀工艺制备的高效光栅耦合器，该成果可为光栅耦合器制备提供参考。