通过液相脉冲激光烧蚀在铜基底上选择性制备少层石墨烯及其形成机制

摘要： 本文报道了通过液相脉冲激光烧蚀技术在铜基底上选择性制备少层石墨烯（FLG）及其形成机制。该方法无需其他前驱体材料，可在常压室温条件下直接于铜箔表面生长FLG，具有工艺简单可控的特点。实验获得了厚度为3-10层、横向尺寸连续达数百微米的少层石墨烯。通过拉曼光谱仪、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜及原子力显微镜对FLG的形貌与结构进行了表征?；诩す?材料-基底三者的相互作用，提出了FLG的形成机制及等离子体碳物种的作用机理。本研究发现通过液相脉冲激光烧蚀技术可直接在铜基底沉积FLG，将为可控形貌少层石墨烯的绿色制备开辟新途径。