热阴极直流等离子体化学气相沉积法制备的硼掺杂金刚石膜的形貌与结构特性

摘要： 采用热阴极直流等离子体化学气相沉积法（HCDC-PCVD），根据不同CH4/H2/B(OCH3)3气体混合比例沉积了硼掺杂金刚石（BDD）薄膜。随后通过拉曼光谱和扫描电子显微镜（SEM）对BDD薄膜的拉曼性能与表面形貌进行表征。结果表明，B(OCH3)3流量对所制备硼掺杂金刚石薄膜的生长特性具有显著影响。掺杂硼原子的存在及其浓度明显改变了金刚石薄膜的表面形貌与结构。随着B(OCH3)3流量增加，SEM观测显示晶粒表面逐渐光滑。根据拉曼光谱估算，这些薄膜中的硼掺杂浓度从1.75×101? cm?3提升至最高2.4×1021 cm?3。