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oe1(光电查) - 科学论文

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  • 摩尔浓度对采用经济型射流雾化器喷雾热解技术制备的氧化铜薄膜结构、光学、形貌及电学性能的影响

    摘要： 采用简单且成本效益高的射流雾化器喷雾热解法，分别以0.1、0.2和0.3 M的不同摩尔浓度（命名为J1、J2和J3）制备了氧化铜（CuO）薄膜。研究了摩尔浓度对CuO薄膜结构、光学、形貌及电学性能的影响。结构研究表明，所制备的CuO薄膜为单斜晶系结构，与标准JCPDS卡片No. 89-5899相符。通过表面轮廓仪测定的CuO薄膜厚度随摩尔浓度增加而增大。采用Kubelka-Munk（K-M）法测得的光学带隙分别为：J1为2.1 eV，J2为1.9 eV，J3为1.8 eV。通过场发射扫描电子显微镜（FESEM）和X射线能谱分析（EDAX）研究了CuO薄膜的形貌特性和化学成分。FESEM显示所有制备的CuO薄膜均良好覆盖并附着于基底，具有优异的均匀性，EDAX光谱证实存在铜（Cu）和氧（O）。根据D3330测试方法采用透明胶带测试确定了附着力强度。对CuO薄膜的电导率进行了研究，测得最大电导率为2.75×10?? S/cm。

    关键词： 薄膜，摩尔浓度，氧化铜，形貌特性，喷射雾化器热解法，结构特性，光学特性，电学特性

    更新于2025-09-09 09:28:46

  • [2018年IEEE国际半导体电子会议(ICSE) - 吉隆坡(2018.8.15-2018.8.17)] 2018年IEEE国际半导体电子会议(ICSE) - 纳米结构TiO?薄膜原子形貌研究：退火效应

    摘要： 二氧化钛（TiO?）是研究最广泛的金属氧化物之一，因其具有光催化剂等多种应用。当比表面积更大时，其光催化活性会增强。因此，本研究通过原子力显微镜（AFM）表征纳米结构TiO?薄膜的表面形貌和粗糙度，旨在获得具有最佳光催化活性的粗糙度薄膜。采用旋涂法在室温下制备TiO?薄膜，所用0.1-0.2 M的TiO?溶液由丁醇钛在乙醇中合成。将TiO?薄膜沉积于硅基底上并在450°C退火。结果表明：退火后薄膜晶粒清晰可见，高温退火时晶粒尺寸与粗糙度均增大。0.2 M TiO?薄膜表现出更高粗糙度，其Ra和RMS值分别为51.29纳米和78.90纳米。

    关键词： 摩尔浓度、粗糙度、二氧化钛、形貌、原子力显微镜

    更新于2025-09-04 15:30:14