等离子体透镜分布对旋转近场光刻中飞行特性的影响

摘要： 旋转近场光刻通过激发表面等离激元极化子来曝光光刻胶，从而实现超越衍射极限的超分辨率纳米图案。这一特性使其在微纳制造领域具有广阔的应用前景。该系统的核心是携带等离激元透镜（PL）的曝光飞行头——其与基底之间保持约10纳米的间隙以实现有效蚀刻。本文基于计算流体动力学分析，研究了空气薄膜上搭载PL的曝光飞行头的飞行状态。我们发现PL对飞行高度的影响会产生边缘效应，这意味着在边缘区域制造的PL会显著改变飞行头的高度。通过在滑块尾块边缘10微米处加工PL，最终利用旋转近场光刻系统实现了稳定的37纳米线宽深度图案。