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短路应力对SiC功率MOSFET中SiO2介质退化的影响
摘要: 本文研究了短路事件对平面SiC MOSFET栅极可靠性的影响,该影响随着结温升高和偏置电压增大而愈发显著。电学波形表明存在栅极退化机制,表现为栅极漏电流随退化程度加剧而持续增大。通过对退化SiC MOSFET进行失效分析,并与新器件结构对比以识别潜在缺陷/异常。聚焦离子束切割显示与新器件相比存在多处差异:(i)多晶硅栅极与铝源极间出现裂纹;(ii)源极接触附近存在金属颗粒;(iii)铝源极顶面发生形变。这些缺陷与栅极漏电流及漏极漏电流的增大具有相关性。
关键词: 聚焦离子束,短路,栅极氧化层击穿,栅极氧化层,退化,缺陷,可靠性,碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管,失效分析,扫描电子显微镜
更新于2025-09-23 15:22:29