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激光诱导光化学蚀刻对聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的表面平滑处理
摘要： 在氧气和真空条件下，通过激光辐照对聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）薄膜表面进行刻蚀。通过激活粗糙表面附近的氧分子，氧自由基会优先刻蚀PMMA表面的凸起部分。研究采用三种不同波长的激光进行对比：短波长（如325纳米）的激光辐照会产生较高的刻蚀速率，而长波长（如532纳米）则对表面形貌无影响。在真空条件下PMMA表面未被刻蚀，表明氧分子是刻蚀过程的必要条件。
关键词： 表面平滑化、波长依赖性、氧自由基、聚甲基丙烯酸甲酯、激光诱导光化学蚀刻
更新于2025-09-16 10:30:52
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P-1.10：通过新型低温反应路径，利用氧自由基辅助高氯酸盐水性前驱体制备溶液法金属氧化物半导体
摘要： 本报告展示了一种创新且简单的化学方法，可在无需燃料添加剂或特殊退火工艺的条件下低温制备MO半导体。与燃烧法不同，我们配制的前驱体仅含两种氧化剂。该由高氯酸盐、硝酸盐和去离子水组成的前驱体，在250°C退火温度下因氧自由基辅助分解及大量放热效应，能轻松转化为In2O3。研究发现硝酸盐的辅助可使高氯酸盐在更低温度下分解并形成高质量氧化膜。采用此前驱体在250°C制备的优化In2O3-TFT展现出14.5 cm2V?1s?1的饱和迁移率。此外，该方法已拓展至350°C薄膜制备并获得了更优性能。
关键词： 金属氧化物半导体，高氯酸盐，溶液加工法，氧自由基，薄膜晶体管
更新于2025-09-09 09:28:46