长、短或超短脉冲激光表面处理下GO层状材料的激光能量参数与磁性能之间的相关性

摘要： 电磁元件大多采用软磁材料作为磁通倍增器。因此，降低磁芯铁损可实现节能。在各类技术中，局部激光处理是一种用于180°磁畴细化的非接触式方法（Patri等[1]）。本研究重新评估了激光处理对取向硅钢磁性能的影响。采用多种激光脉冲宽度：超短脉冲激光主要适用于烧蚀工艺，长/短脉冲持续时间则用于辐照与刻划工艺[2]。通过单张试片测试仪（150×150 mm2）测量功率损耗。在1.5 T峰值磁感应强度和50 Hz频率下，各类处理均使功率损耗降低15-35%。但仅刻划与烧蚀工艺同时提升了表观磁导率。本研究利用激光能量参数评估其对热影响区、沟槽深度、诱发热应力及磁性能模型内部特性（静态磁导率与动态磁化特性）的影响[3]。