原子力显微镜辅助研究电子器件中的共形涂层

摘要： 目的——本文旨在提出一种研究微电子用保形涂层局部特性的新方法。设计/方法/途径——该方法基于原子力显微镜（AFM）技术，并具备局部电学测量功能，在获取形貌的同时可记录局部阻抗谱、阻抗成像及直流电流分布图。通过在商用环氧涂层电子印刷板（原始状态及使用六年后）上的应用，验证了该AFM辅助方法的效能。研究发现——该技术能有效识别、空间定位并表征保形涂层的缺陷。实践意义——该方法可用于评估电子或电工等严苛领域中防护膜的状态，这些领域因元件尺寸微小且涂层相对较薄，传统防腐涂层检测技术难以适用。原创性/价值——作者采用的方法在有机涂层研究领域具有创新性。