采用毫秒级闪光灯退火技术实现铁电Hf_xZr_1?xO₂薄膜的稳定化

摘要： 我们报道了采用低热预算毫秒级闪光灯退火技术结晶的铁电HfxZr1?xO2（HZO）薄膜的稳定性研究。通过结合120秒375°C预加热步骤与毫秒级闪光灯脉冲，可获得与传统300秒650°C快速热退火相当的铁电特性。X射线衍射、电容电压及极化回滞分析一致表明形成了HZO的铁电相。在10纳米厚HZO层中实现了约21μC/cm2的剩余极化强度（Pr）和约1.1MV/cm的矫顽?。‥c）。该技术为低热预算条件下制备铁电HZO薄膜提供了新方案。