衬底温度对脉冲激光沉积法制备氧化铋薄膜的影响

摘要： 我们展示并讨论了采用金属靶材通过脉冲激光沉积技术在低成本BK7玻璃基片上生长的氧化铋薄膜。由于氧化过程中可能形成多种中间态氧化铋以及化学计量比氧化物（即三氧化二铋Bi2O3）的多晶型体，我们的研究选择具有特殊意义。结果表明：在6×10?1 mbar氧分压、100 sccm气体流量条件下，随着衬底温度tS（300-600°C）升高，铋的氧化程度增加。正如预期，薄膜结晶度也随tS提升而增强。但可见光范围内薄膜折射率(n)随tS升高而降低。此外，薄膜透射率随tS增加超过60%，尤其在红光及近红外区域（600nm以上）。最后，我们将结果与文献进行讨论对比。