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MiniFlex X射线衍射仪 光谱分析仪

MiniFlex X射线衍射仪

分类: 光谱分析仪

厂家: 理学株式会社

产地: 日本

型号: MiniFlex

更新时间: 2025-11-14T05:53:13.000Z

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高性能 科学研究 材料分析 台式仪器 X射线衍射 灵活性

MiniFlex是一款第六代台式X射线衍射仪,专为材料分析设计,具有高性能和灵活性,适用于多种行业和研究领域。

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概述

MiniFlex是一款第六代台式X射线衍射仪,专为材料分析设计,具有高性能和灵活性,适用于多种行业和研究领域。

参数

  • 软件 / Software : SmartLab Studio II
  • 数据分析 / Data Analysis : SmartLab Studio II
  • 最大功率 / Maximum Power : 600W
  • 管电压 / Tube Voltage : 40kV
  • 管电流 / Tube Current : 15mA
  • 快门 / Shutter : 旋转快门与联锁连接
  • X射线管 / X-Ray Tube : Cu
  • 发散狭缝 / Divergence Slit : 固定或可变
  • 散射狭缝 / Scattering Slit : 固定
  • 接收狭缝 / Receiving Slit : 固定
  • 窗口材料 / Filter : Kβ滤光片
  • 测角仪类型 / Goniometer Type : 垂直
  • 半径 / Radius : 150mm
  • 扫描范围 / Scanning Range : 3°至145°(2θ)
  • 扫描速度 / Scanning Speed : 0.01°至100°/min (2θ)
  • 最小步长 / Minimum Step Width : 0.005°(2θ)
  • 准确性 / Accuracy : ±0.02°
  • 探测器 / Detector : D/teX Ultra2 1D高速硅条探测器
  • 电源 / Power : MiniFlex600: 1φ AC100至240V±10% 50/60Hz 2.1kVA; MiniFlex600-C: 1φ AC100至240V±10% 50/60Hz 2.1kVA
  • 选项X射线管 / Options X-Ray Tube : Co, Fe或Cr
  • 适配器 / Attachment : 样品旋转器,自动样品更换器(8个样品),BTS150,BTS500温度附件
  • 样品架 / Sample Holder : 空气敏感样品架,零背景样品架,散装样品架
  • 单色仪 / Monochromator : 用于探测器的石墨单色器
  • 探测器选项 / Detector Options : XSPA-200 ER 2D混合像素阵列探测器
  • 版本MiniFlex600 / Version MiniFlex600 : 外部冷却器,重量约80kg,尺寸620x456x395mm
  • 版本MiniFlex600-C / Version MiniFlex600-C : 内部冷却器,重量约90kg,尺寸620x526x395mm

应用

1. 材料科学研究 2. 地质学研究 3. 化学分析 4. 水泥、催化剂、石油、能源和制药行业的质量控制

特征

1. 紧凑设计,适合实验室台式安装 2. 成本仅为传统落地式衍射仪的一半 3. 具有卓越的科学记录 4. 易于使用、操作和维护 5. 可使用现有装置 6. 配备600W X射线管

图片集

MiniFlex图1
MiniFlex图2
MiniFlex图3
MiniFlex图4

规格书

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AI 智能分析

SCI论文引用分析

该产品已被81篇SCI论文引用

基于平台30万篇光学领域SCI论文分析

  • Zn0.5In0.5Se(ZIS)薄膜温度依赖性透射光谱分析

    采用热蒸发法沉积的ZnInSe薄膜在550-950 nm光谱范围和10-300 K温度范围内进行了温度依赖性透射实验。随着温度升高,透射光谱向长波长(低能量)方向移动。通过Tauc关系和导数光谱法分析透射数据,Tauc关系分析得出该材料室温带隙存在三个能级值:1.594 eV、1.735 eV和1.830 eV。透射率一阶波长导数谱在1.632 eV和1.814 eV处呈现两个极大值,在1.741 eV附近出现一个极小值。两种方法测定的能级值高度吻合。这三个带隙能级的存在归因于晶体场和自旋轨道耦合导致的价带分裂。同时采用Varshni关系分析了带隙能量的温度依赖性,确定了绝对零度时的带隙能量值及其随温度变化的速率。

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  • 利用第一过渡金属氧化物纳米团簇修饰的锐钛矿型二氧化钛实现可见光驱动水氧化

    由纳米晶锐钛矿型TiO2与第一过渡金属氧化物(MOx;M=Mn、Fe、Co或Ni)纳米团簇组成的复合材料(具有潜在水氧化催化功能),被用作可见光(480<λ<900nm)驱动水氧化的光催化剂。虽然TiO2本身不吸收可见光,但所有MOx/TiO2复合材料均具备可见光吸收能力。在以Ag+作为电子受体的条件下,使用这些材料考察了可见光驱动水氧化的活性。研究发现Co和Ni是有效的改性剂,能促进TiO2的水氧化反应,其中CoOx/TiO2表现出最高活性。研究还采用已建立的Ru(II)三二亚胺配合物作为氧化还原光敏剂并结合弱可见光照的方案,探究了"暗态"水氧化过程中MOx系列的催化活性。在此条件下可忽略MOx/TiO2的光吸收对反应的影响。结果表明CoOx/TiO2在所有MOx/TiO2复合材料中具有最高的活性。本研究揭示了MOx表面发生的"暗态"水氧化过程对决定MOx/TiO2光催化水氧化整体效率的重要作用。

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  • 双层Sillén-Aurivillius钙钛矿氧氯化物用于可见光驱动水分解的能带工程

    近期,Bi4MO8X(M = Nb, Ta;X = Cl, Br)这类Sillen-Aurivillius型单层钙钛矿氧卤化物因其独特的价带结构被证实是具有前景的可见光响应光催化剂。本研究报道了一系列双层类似物A4A’M2O11Cl(A, A' = Bi, Pb, Ba, Sr;M = Ta, Nb, Ti)的合成、结构及光催化性能。通过两步法,采用不同组合的预制备多金属氧化物和氧卤化物前驱体,成功合成了包括十种新化合物在内的十四种材料。与价带顶(VBM)和导带底(CBM)几乎不变的Bi4MO8X形成鲜明对比的是,A4A’M2O11X的VBM和CBM会随组分变化产生一定程度的改变。例如在Sr2Bi3M2O11Cl中,用Pb和Ba取代Sr位点会导致价带和导带边缘移动从而缩小带隙。结构表征与DFT/马德隆势计算表明,观测到的能带边缘主要源于Bi/Pb 6s2孤对电子与O-2p轨道的相互作用以及Bi3+阳离子的马德隆位点势。此外,萤石层中Bi3+占据率较高的化合物表现出更优的光生电子传导性,从而在可见光下展现出更好的水氧化光电化学性能。

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实验方案推荐
AI分析生成
  • 光电信息材料与器件实验方案

    1. 实验设计与方法选择:本研究对热蒸发沉积的ZIS薄膜进行了温度依赖性透射测量。通过Tauc关系和导数光谱分析光学特性以确定带隙能量及其温度依赖性(采用Varshni关系)。结构表征使用XRD和EDS完成。 2. 样品选择与数据来源:ZIS薄膜采用热蒸发法在钠钙玻璃衬底上沉积,蒸发源为Zn、Se和In2Se3。对薄膜的化学计量比和结晶度进行了表征。 3. 实验设备与材料清单:设备包括Vaksis Midas—PVD沉积系统、Inficon XTM/2沉积监控仪、Dektak 6 M厚度轮廓仪、Rigaku miniflex XRD衍射仪、ZEISS EVO 15扫描电镜(用于EDS)、闭循环氦制冷机(控温)以及Shimadzu UV 1201分光光度计(透射测量)。材料包含Zn、Se、In2Se3和钠钙玻璃衬底。 4. 实验流程与操作步骤:薄膜在200°C衬底温度和10?6托本底压强下沉积,厚度约2.8 μm。XRD扫描范围20°–80°,扫描速度0.02°/s。透射测量在10-300K温度区间、550–950nm波长范围进行,光子沿(001)晶面偏振垂直入射。数据通过LabView软件采集。 5. 数据分析方法:吸收系数通过公式α = (1/d) ln(1/T)由透射率计算得出。带隙能量通过Tauc图((αhν)^2 vs. hν)和导数光谱(dT/dλ vs. λ)确定。温度依赖性采用Varshni关系拟合。晶体场和自旋轨道分裂参数通过准立方模型计算。

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  • 材料科学与工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择:本研究采用两步合成法,先通过聚合复合物(PC)法制备前驱体氧化物(A'Bi2M2O9和Bi3TiMO9),再以固相反应(SSR)法处理卤氧化物前驱体(A'BiO2Cl),最后通过SSR合成双层Sillén-Aurivillius化合物。表征手段包括XRD、SEM、BET比表面积、UV-vis漫反射光谱、XPS、光电子能谱(PYS)、瞬态光电流响应(TRMC)、光电化学测试及光催化反应。理论计算采用DFT(CASTEP)和马德隆位点势分析。 2. 样品选择与数据来源:合成了十四种化合物(含十种新化合物如Ba2Bi3Ta2O11Cl、SrPbBi3Ta2O11Cl),采用多种阳离子组合(A,A'=Bi,Pb,Ba,Sr;M=Ta,Nb,Ti)。前驱体由商业金属源(如Bi(NO3)3·5H2O、ACO3、MCl5、钛酸异丙酯)制备。 3. 实验设备与材料清单:设备包括XRD(理学MiniFlex II)、SEM(蔡司NVision 40)、BET比表面积分析仪(BEL日本BELSORP-mini)、紫外可见分光光度计(JASCO V-650)、XPS(日本电子JPC-9010MC)、光电子能谱仪(Bunko Keiki BIP-KV202GD)、TRMC装置(Nd:YAG激光器,Continuum公司)、电化学工作站(AMETEK VersaSTAT 4)、气相色谱仪(Inficon 3000 MicroGC、岛津GC-8A)。材料来自和光纯药、高纯度化学等厂商的金属盐、氧化物及卤化物。 4. 实验流程与操作步骤:前驱体氧化物通过PC法合成(金属源与柠檬酸、乙二醇在甲醇中混合形成凝胶后煅烧)。卤氧化物前驱体由碳酸盐/氧化物与BiOCl经SSR制备。目标化合物在空气或真空条件下于1123K煅烧15小时合成。光电极通过FTO玻璃上的电泳沉积法制备并进行后颈缩处理。光催化测试将催化剂分散于溶液中光照,同步进行气体分析。 5. 数据分析方法:XRD图谱采用Le Bail法和Rietveld精修(JANA2006、RIETAN-FP软件)。UV-vis数据通过Tauc图确定带隙。PYS数据转换为能带电位。TRMC数据用拉伸指数函数分析载流子寿命。光催化速率根据气体析出量计算。

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  • 材料物理实验方案

    1. 实验设计与方法选择:本研究采用热释光(TL)实验分析溶胶-凝胶法合成的ZnO纳米颗粒的陷阱分布。TL测量在10-300K温度范围内进行,通过不同激发温度(Texc.,60-125K)观察峰位最高温度和激活能的偏移情况。 2. 样品选择与数据来源:ZnO纳米颗粒由醋酸锌二水合物和氢氧化钠在蒸馏水中合成,经300°C煅烧2小时后研磨成粉末。利用SEM和XRD表征其结构特性。 3. 实验设备与材料清单:设备包括ZEISS EVO 15扫描电镜、Rigaku miniflex XRD系统、Advanced Research Systems公司CSW-202型氦气低温恒温器、紫外LED(365nm,3W)、光电倍增管、发光二极管、光学透镜、磁力搅拌器、烘箱及玛瑙研钵。材料为Zn(CH3COO)2·2H2O和NaOH。 4. 实验流程与操作步骤:合成纳米颗粒后经煅烧和研磨,压制成直径10mm、厚度1mm的圆片。TL实验包括将样品冷却至目标温度,用紫外LED辐照5分钟,再以0.2K/s速率升温至室温并测量热释光。 5. 数据分析方法:采用Debye-Scherrer公式分析XRD数据的晶粒尺寸,通过初始上升法计算TL数据的激活能和频率因子,并对Tmax与Texc.关系曲线进行线性拟合。

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我们还有78 个针对不同应用场景的完整实验方案,包括详细设备清单、连接示意图和数据处理方法。

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厂家介绍

1951 年创立,全球 X 射线分析技术龙头,产品涵盖 XRD、XRF、CT、半导体量测及手持式检测仪器;

相关产品

图片 名称 分类 制造商 参数 描述
  • ZEISS Sigma 300 with RISE 光谱分析仪 ZEISS Sigma 300 光谱分析仪 蔡司

    拉曼共聚焦显微镜设置: 532nm with 75mW or 30mW laser 适配法兰、CCD和导航软件: Laser safety interlock for laser class 1M CCD相机升级: Back-illuminated CCD

    ZEISS Sigma 300 with RISE是一款集成了拉曼成像和扫描电子显微镜(SEM)的高端设备,能够实现化学和结构指纹分析,提供3D共聚焦拉曼成像功能,识别分子和晶体学信息,并将SEM成像与拉曼映射和EDS数据相关联。

  • ZEISS LSM 990 Spectral Multiplex 光谱分析仪 LSM 990光谱复用器 光谱分析仪 蔡司

    光谱范围: 380nm-900nm 探测器数量: 32个GaAsP检测器,2个NIR GaAs和GaAsP检测器 激光波长范围: 405nm-730nm

    ZEISS LSM 990 Spectral Multiplex是一款先进的光谱成像系统,专为深入理解空间生物学而设计。它能够高效分离荧光标签,优化多蛋白标记实验,并消除自发荧光干扰。

  • Axio Observer 光谱分析仪 Axio Observer 倒置显微镜系统 光谱分析仪 蔡司

    储存温度范围: +5°C至+40°C 包装条件允许的空气湿度: 最大75%至+25°C 运输条件允许的空气湿度: 最大75%至+25°C

    Axio Observer是一款倒置显微镜系统,专为金相学研究设计,能够快速、灵活且经济地分析大量样品。其倒置结构无需重新聚焦,即使在更换放大倍率或样品时也能保持高效。结合ZEISS的高质量光学元件和自动化组件,提供可靠且可重复的结果。

  • Crossbeam Family 光谱分析仪 Crossbeam Family 光谱分析仪 蔡司

    电子枪类型: Schottky emitter 加速电压范围: 0.2kV-30kV 分辨率: 1.4nm@1kV, 0.7nm@15kV

    ZEISS Crossbeam系列结合了场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和下一代聚焦离子束(FIB)的强大成像和分析性能,适用于高通量3D分析和样品制备。

  • ZEISS EVO Family 光谱分析仪 ZEISS EVO系列 光谱分析仪 蔡司

    分辨率高: 2nm, 2.5nm @30kV SE with LaB6, W 真空模式: 6nm, 7.5nm @3kV SE with LaB6, W 分辨率低真空模式: 3.8nm, 4nm @30kV SE with LaB6, W

    ZEISS EVO系列是一款模块化扫描电子显微镜平台,提供直观操作、高性能数据质量,适用于常规调查和研究应用。

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