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Agilent Cary 7000通用测量分光光度计 光谱仪

Agilent Cary 7000通用测量分光光度计

分类： 光谱仪

厂家： Agilent Technologies Inc

产地： 美国

更新时间： 2025-11-19T08:55:29.000Z

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概述

测量几乎任何样品；测量任意角度的绝对反射率和透射率；并在无人看管的情况下测量它们。革命性的安捷伦Cary 7000通用测量分光光度计（UMS）将满足您所有的固体采样需求。整夜收集数百个UV-VIS-NIR光谱，或在几分钟到几小时而不是几小时到几天内表征光学元件或薄膜。Cary 7000 UMS为光学、薄膜/涂层、太阳能和玻璃的研究、开发和QA/QC提供交钥匙解决方案，将推进您的材料分析。设计前所未有的实验，扩展您的研究，并使用开创性的Cary 7000 UMS节省时间和金钱。

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Agilent Cary 7000通用测量分光光度计图1
Agilent Cary 7000通用测量分光光度计图2
Agilent Cary 7000通用测量分光光度计图3
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  • 具有可调透明度和抑制唤醒效应的TiN<sub>x</sub>/Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub>/TiN<sub>x</sub>铁电存储器

    基于HfO?的铁电（FE）薄膜的发现为下一代存储技术中的铁电存储器带来了巨大潜力。本文报道了采用不同氮原子含量的TiNx作为电极，在石英衬底上制备了用于透明存储应用的Hf?.?Zr?.?O?铁电存储器。TiNx/Hf?.?Zr?.?O?/TiNx结构在350-2500 nm波长范围内的透射率总体升高而反射率降低。随着氮含量增加，可见光与红外光的选择性发生变化：当N?比例从0%提升至30%时，1064 nm（红外）与532 nm（绿光）的透射选择性从79.6%增至105.3%，而反射选择性则从107.9%降至48.9%。研究测试了铁电TiNx/Hf?.?Zr?.?O?/TiNx结构高达10?次的极化循环性能，富含氮的TiNx电极器件显示出循环过程中唤醒效应的抑制。同时检测了电容器的瞬态电流回线和原子分数深度分布，结果表明富氮初始器件中氧空位缺陷较少，且循环过程中未出现显著的氧空位缺陷再分布。

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  • 氧化铁涂层玻璃上的溅射透明导电石墨烯薄膜

    本工作报道了石墨烯（G）薄膜的光学、电学及形貌特性。首先采用喷涂法在玻璃基底上涂覆氧化铁（IO）薄膜，随后通过溅射技术在IO层上制备石墨烯薄膜（G/IO复合膜）。XPS光谱分析表明，IO薄膜为石墨烯生长提供了锚定位点，从而增强了薄膜与基底的结合力。此外，该薄膜的方阻范围为16–19.5千欧/□。光学测试显示，经过后沉积热处理的G/IO薄膜透光率比未处理样品提高约11%。实际上，这些热处理后的薄膜在波长超过850 nm时透光率高于80%，并具有0.188±0.039 TPa的高弹性模量，使其成为薄膜晶体管、表面等离子体生物传感器或表面增强拉曼散射（SERS）衬底中透明导电电极的理想候选材料。

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  • 超薄镍薄膜的特性
    光学测量 超薄膜 透明导电薄膜 镍薄膜

    通过在熔融石英基底上采用射频溅射法制备了导电且透明的超薄镍薄膜。通过拟合多角度分光光度计和椭偏仪数据，获得了镍薄膜的特性参数（厚度、折射率和消光系数）。X射线反射（XRR）测量推断的薄膜厚度与椭偏仪结果高度吻合。X射线光电子能谱（XPS）分析表明，薄膜表面同时存在镍金属相和镍混合氧化物相，这解释了此类薄膜具有高电稳定性的原因。

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实验方案推荐
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  • 电子科学与技术实验方案

    1. 实验设计与方法选择：研究通过磁控溅射和原子层沉积（ALD）技术在石英衬底上制备TiNx/Hf0.5Zr0.5O2/TiNx结构，调节TiNx电极的氮含量并分析其光学与电学特性。 2. 样品选择与数据来源：采用商用石英玻璃衬底（20毫米×20毫米×0.5毫米），依次经piranha溶液、去离子水和O2等离子体清洗。TiNx溅射过程中设置不同Ar:N2气体流量比（0%、5%、10%、20%、30% N2）制备样品。 3. 实验设备与材料清单：设备包括用于TiNx沉积的射频溅射系统、生长Hf0.5Zr0.5O2和Al2O3的ALD系统、光学测量的通用分光光度计（Cary 7000，安捷伦）、晶体结构分析的掠入射X射线衍射仪（GI-XRD）、深度剖析的X射线光电子能谱仪（XPS）以及极化循环与瞬态电流分析的电学测量装置。材料包含TiNx靶材、Al(CH3)3（TMA）、Hf(NCH3C2H5)4（TEMAH）、Zr(NCH3CH5)4（TEMAZ）、H2O及气体（Ar、N2）。 4. 实验流程与操作步骤：衬底经清洗后通过ALD沉积30纳米Al2O3。底部TiNx层（10纳米厚）以不同Ar:N2比例溅射沉积。Hf0.5Zr0.5O2薄膜（20纳米厚）通过ALD沉积。顶部TiNx电极（20纳米厚）采用紫外光刻与溅射结合剥离工艺图案化。样品在500°C氮气环境中退火30秒。测量350至2500纳米波段的光学透过率与反射率。GI-XRD测试入射角为0.5°。极化循环采用10微秒、3兆伏/厘米方波脉冲，配合1千赫兹、3兆伏/厘米斜坡脉冲进行10^7次循环测量。分析瞬态电流回线与XPS深度分布。 5. 数据分析方法：运用标准技术处理光学光谱、XRD图谱、极化回线、瞬态电流测量及XPS分布数据，评估透光率、晶体结构、铁电性能及缺陷分布。

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  • 材料科学与工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择：研究采用两步流程：首先通过喷雾热解法在玻璃基底上沉积氧化铁（IO）薄膜作为石墨烯生长的催化剂；其次利用射频磁控溅射在IO层上沉积石墨烯薄膜。部分样品经过后续热处理以改善性能，旨在提升石墨烯薄膜的附着性及透明导电应用特性。 2. 样品选择与数据来源：使用尺寸为2.5×2.5 cm2的钠钙玻璃基底。样品制备采用不同溅射时长（如G30表示30分钟）及有无热处理（如G30T表示经热处理）。 3. 实验设备与材料清单：设备包括喷雾热解装置、配备99.99%纯度石墨靶材（直径7.5 cm）的射频磁控溅射系统、卤素灯热处理装置、布鲁克D2型X射线衍射仪（XRD）、Witec CRC200原子力显微镜（AFM）、安捷伦Cary 7000紫外-可见分光光度计、赛默飞世尔K-Alpha系统X射线光电子能谱仪（XPS）、Witec CRC200拉曼光谱仪、KLA Tencor D-600轮廓仪、Rtec纳米压痕仪（配备伯克维奇金刚石压头）及GW Instek GOM-802四探针仪。材料包含氯化铁溶液、玻璃基底、氩气及用于清洁的异丙醇/乙醇。 4. 实验流程与操作步骤：将0.1 M氯化铁溶液在400°C下喷射至玻璃基底20秒沉积IO薄膜，基底经清洁处理。石墨烯通过150 W射频功率、400°C基底温度、1.5×10?1托氩气压强溅射30分钟制备。部分样品在真空环境下450°C热处理10分钟。表征手段涵盖XRD、AFM、透光率测量、XPS、拉曼光谱、厚度测量、纳米压痕及方阻测试。 5. 数据分析方法：采用标准技术分析数据：XRD测定结构、AFM检测粗糙度、分光光度计测量透光率、XPS分析化学成分、拉曼评估缺陷密度、轮廓仪测定厚度、纳米压痕测试力学性能、四探针法测量电阻，统计分析包含多次测量取平均值。

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  • 光电信息科学与工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择：该设计采用包含7层的1D三元光子晶体结构，并添加装饰性颜色层。方法上使用高、低折射率材料以实现宽阻带和高透射效率。 2. 样品选择与数据来源：样品在260°C下通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺制备于石英衬底上。通过光学模拟与实测验证设计方案。 3. 实验设备与材料清单：采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)进行制备，使用分光光度计(Cary 7000，安捷伦)进行测量，光谱椭偏仪(M-2000，J.A. Woollam)用于折射率校准。 4. 实验流程与操作步骤：制备过程中在不破真空条件下交替沉积非晶硅(a-Si)和氮化硅(Si3N4)层，通过模拟计算与实测评估光学性能。 5. 数据分析方法：采用传输矩阵法进行模拟计算，通过角度分辨测量评估角度特性。

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我们还有7 个针对不同应用场景的完整实验方案，包括详细设备清单、连接示意图和数据处理方法。

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在安捷伦，我们相信多样性所包含的内容远远超过您所能看到或衡量的内容。多元化是指承认和尊重员工身份的各个方面。当员工感受到彼此的联系和包容时，他们就会把工作做到较好。我们的目标是继续推动战略、计划和规划，使所有员工都能在工作中取得成功。

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图片 名称 分类 制造商 参数 描述
  • 4200-SCS Hot Carrier System 光谱仪 4200-SCS热载体系统 光谱仪 Keithley Instruments Inc

    漏电流: 测量晶体管处于关断状态时的漏电流 阈值电压: 在指定漏电流下的阈值电压 跨导: 在指定漏电流下的跨导

    Keithley 4200-SCS Hot Carrier System是一款用于测试MOS晶体管热载流子退化的设备，能够在晶圆生产后立即提供准确的退化测试结果。

  • Aeris 光谱仪 AERIS 紧凑型 X 射线衍射仪 光谱仪 ASD Inc Div of Malvern Panalytical Inc

    样品加载方式: External sample loading 样品托盘: Variety of full-sized sample holders capable meeting all requirements 样品更换方式: Choose between a manual loading dock, 6-position sample changer, or 67-position high-capacity sample changer

    Aeris是一款高精度台式XRD系统，能够在五分钟内提供精准的分析结果，支持0D、1D和2D检测器选项，并具有灵活的测量配置。

  • ARCoptix OEM011 光谱仪 FT-IR 光谱仪 光谱仪 ARCoptix

    分束器材料: CaF2 分束器材料: CaF2 分束器材料: ZnSe

    ARCoptix OEM011是一款灵活的光谱仪产品，作为OEM010系列的替代方案。其主?？榕浔改谥霉庠矗⊿iC global），具有温度调节功能，并采用永久对准的干涉仪系统。TE-MCT探测器被移至外部?？?，非常适合需要采样系统（短路径气体池、净化体积等）的配置。两个模块均可轻松固定在光学面板上，并支持30mm笼式系统杆以便快速原型设计。

  • SuperGamut? UV-NIR Spectrometer 光谱仪 UV-NIR 光谱仪 光谱仪 BaySpec

    光栅: Concave Holographic

    BaySpec的SuperGamut?系列UV-NIR光谱仪设计用于解决实际应用中的挑战，提供卓越性能、长期可靠性和紧凑尺寸。该产品采用高效凹面全息衍射光栅作为光谱分散元件，并使用超灵敏CCD阵列探测器进行检测，支持高速并行处理和连续光谱测量。

  • IRAffinity-1 光谱仪 IRAffinity-1 红外光谱仪 光谱仪 Shimadzu

    光学系统: 干涉仪动态准直光学系统 光源: 陶瓷光源 探测器: DLATGS检测器

    IRAffinity-1是一款紧凑型傅里叶变换红外光谱仪，具有高灵敏度和性能，适用于广泛的分析需求。

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