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在现代光电系统和电子电工设备中，光学元件名称的准确识别与理解是确保系统设计、维护及优化的基石。无论是构建精密的光纤通信网络，还是调试复杂的激光加工设备，工程师和技术人员若对各类光纤元件、透镜、滤光片等关键部件的命名规则与功能特性模糊不清，极易导致选型错误、性能下降甚至系统故障。随着半导体器件与光电技术的深度融合，掌握规范的光学元件名称不仅关乎技术沟通的效率，
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概述
Thorlabs公司的MPD124-P01是一款光学反射镜，反射镜厚度为21.8 mm，反射镜直径为25.4 mm.有关MPD124-P01的更多详细信息，请联系我们。
参数
- 反射镜类型 / Mirror Type : Off-Axis Parabolic Mirror
- 反射镜形状 / Mirror Shape : Parabolic
- 父焦距公差 / Parent Focal Length Tolerance : ±1%
- 反射焦距公差 / Reflected Focal Length Tolerance : ±1%
- 基底/材料 / Substrate/Material : Aluminum
- 镀膜材料 / Coating Material : Protected Silver
- 反射镜厚度 / Mirror Thickness : 21.8 mm
- 反射镜直径 / Mirror Diameter : 25.4 mm
- 表面质量 / Surface Quality : 40-20 scratch-dig
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高功率飞秒激光脉冲作用下铁靶表面预等离子体的干涉显微镜研究
干涉显微镜 飞秒脉冲 电子加速机制 热电子
采用对比度为10^7的Cr:镁橄榄石激光系统发射飞秒脉冲，通过时间分辨干涉显微镜测量了在强度为10^16 W/cm2的飞秒激光脉冲辐照下，块体铁靶表面形成等离子体的特征扩散尺度。实验证明该技术在相关测量中具有高效性。实验表明，受激光脉冲作用后，密度超过临界值的等离子体层位移不超过30纳米。
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用于研究高功率飞秒激光脉冲形成的非理想等离子体的时间分辨干涉显微镜
飞秒激光脉冲 时间分辨干涉显微镜 等离子体密度不均匀性 非理想等离子体
展示了在强度为10^16 W/cm2的飞秒激光脉冲作用下，块状铁靶表面等离子体密度特征尺寸的测量结果。研究采用时间分辨干涉显微技术进行，使用铬:镁橄榄石激光系统产生的具有10^7高时间对比度的飞秒激光脉冲。所选技术的有效性得到验证，测得等离子体不均匀性尺寸小于30纳米。
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实验方案推荐
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物理学实验方案1
1. 实验设计与方法选择：采用时间分辨干涉显微镜测量等离子体扩散的特征尺度。该技术使用Cr:镁橄榄石激光系统发射的飞秒脉冲，其强度对比度为10^7。 2. 样本选择与数据来源：以块状铁靶材作为样本，通过飞秒激光脉冲进行辐照。 3. 实验设备与材料清单：包括基于主动Cr:镁橄榄石元件的太瓦级飞秒红外激光系统、延迟线、空间滤波器、一组中性滤光片、微透镜、抛物面镜、真空腔室及CCD相机。 4. 实验流程与操作步骤：采用泵浦-探测方案，将激光辐射分为泵浦光束和探测光束，通过调节泵浦与探测脉冲间的延迟时间研究预等离子体形成与膨胀的动力学过程。 5. 数据分析方法：通过分析复反射系数相位的空域分布来确定等离子体层的变化。
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物理学实验方案2
1. 实验设计与方法选择：本研究采用时间分辨干涉显微镜技术，研究飞秒激光脉冲作用下铁靶表面的等离子体形成与扩展过程。 2. 样本选择与数据来源：使用具有特定尺寸和表面粗糙度的块状圆柱形铁样品。 3. 实验设备与材料清单：包括铬：镁橄榄石激光系统、迈克尔逊干涉仪、CCD相机（SensiCam QE，PCO）及各类光学元件。 4. 实验流程与操作步骤：实验设置采用泵浦-探测方案，包含精确延迟控制、空间滤波及干涉图记录。 5. 数据分析方法：利用干涉图处理的傅里叶方法分析反射探测辐射的相位变化。
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厂家介绍
Thorlabs致力于以快速有效的服务，为客户供应高品质的光电产品及附属产品。索雷博, 光学平台, 光学元件, 位移台, 光纤跳线, 激光器, 二极管驱动, 宽谱光源, 光电探测, 光束分析, OCT成像, 成像系统, 压电陶瓷, 光电实验室
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名称
分类
制造商
参数
描述
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PS 975 M-M01安装式25.4mm后向反射器
光学反射镜
索雷博
有效孔径: ?17.8mm 直径公差: +0/-0.1mm 表面质量: 40-20 Scratch-Dig
PS975M-M01是一款安装在直径为25.4mm的反射器，具有高精度光学性能和耐用的结构设计。
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