在电子制造与研发领域,如何精准分析材料的分子结构并检测微小缺陷一直是行业痛点。拉曼光谱仪的作用正是解决这一难题的核心技术——它通过激光与物质分子振动能级的相互作用,提供非接触、无损的化学成分"指纹图谱"。从半导体晶圆的质量控制到新型光纤元件的材质验证,该技术已成为现代电子工业不可或缺的分析工具。本文将深入解析拉曼光谱仪在电子电工行业的具体应用场景,并分享提升
LAMBDA 265
UV/Visible Spectrometer from 190 to 1100 nm
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概述
参数
- 应用 / Applications : Food & Agriculture, Research & Development
- 测量技术 / Measuring Techniques : Molecular Spectroscopy, UV Spectroscopy, VIS Spectroscopy, Transmission
- 光谱仪类型 / Spectrometer Type : Modular
- 光谱分辨率 / Spectral Resolution : 1 nm
- 谱带 / Spectrum Band : UV/Vis
规格书
AI 智能分析
该产品已被62篇SCI论文引用
基于平台30万篇光学领域SCI论文分析
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酸处理的铁掺杂二氧化钛作为高性能光催化剂用于可见光照射下降解苯酚
动力学 铁掺杂 苯酚降解 可见光 光催化剂
通过酸处理工艺显著提升了铁掺杂二氧化钛纳米颗粒的光催化活性。该光催化剂采用溶胶-凝胶法制备,Fe与Ti的摩尔比为0.5%,初始pH为3的酸性条件。通过X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、能量色散X射线光谱(EDX)、X射线光电子能谱(XPS)和漫反射光谱(DRS)对纳米颗粒进行了结构表征。研究发现光催化活性受到纳米颗粒表面氧化铁污染层的抑制。采用盐酸酸处理工艺清除了该污染层后,在可见光照射下使用500 mg/L Fe0.5-TiO2处理10 mg/L苯酚溶液时,90分钟反应时间内的光催化效率从33%大幅提升至57%(性能提升约73%)。这一显著改进是通过清除纳米颗粒表面的氧化铁污染层并将pH调节至弱酸/弱碱范围实现的。
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氧化石墨烯/氧化锌纳米棒/氧化石墨烯三明治结构:光致发光的起源与机制
氧化锌纳米棒 水热法 激发效应 氧化石墨烯
本文报道了通过水热法在Si(100)衬底上制备的氧化石墨烯/氧化锌纳米棒/氧化石墨烯(GO/ZnO纳米棒/GO)纳米复合材料结构与光学特性。X射线衍射(XRD)测试证实样品为六方纤锌矿结构,晶粒尺寸约50-60纳米。扫描电镜(SEM)显示ZnO纳米棒夹在GO层间形成三明治状纳米复合结构。傅里叶变换红外光谱(FTIR)中不同振动频率揭示了ZnO纳米棒与GO的相互作用。紫外-可见光谱(UV-Vis)显示最强吸收峰位于370纳米处,计算得出GO/ZnO纳米棒/GO的光学带隙能(Eg)为3.15电子伏特。光致发光(PL)测试表明ZnO纳米棒因氧空位杂质存在呈现559纳米强可见光发射。当纳米棒被GO层覆盖后,复合材料的PL强度因电荷转移过程出现淬灭和偏移。这些结果有望提升光电器件的性能表现。
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纹理化CdSe薄膜结构与光学性能的厚度依赖性关联
通过热蒸发法在玻璃基底上沉积了亚微米级不同厚度的纳米晶CdSe薄膜。X射线衍射线型分析证实,随着薄膜厚度减小,晶粒结晶度逐渐下降,同时Cd与Se的摩尔比也随之降低。微观结构与晶体取向分布的协同分析明确表明:CdSe在玻璃基底上倾向于形成纳米柱状结构,其六方晶系的c轴平行于生长方向。基于柱状结构的纵横比和六方(002)基面取向离散度,本文探讨了结构演变的厚度依赖性。采用Swanepoel包络法获得的光学常数谱[n(λ), k(λ)]变化,通过化学计量失配导致的晶体缺陷进行了解释,这些缺陷同时也造成了带隙和价带劈裂能随厚度变化的偏移。详细讨论了介电函数、能量损失函数、光学电导率、趋肤深度及截止能量的红移现象,及其光谱形貌随复折射率实部与虚部色散关系的变化规律——这可能为全面理解其他硫属化物半导体薄膜的厚度相关光学特性提供新思路。
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纳米材料与技术实验方案
1. 实验设计与方法选择:本研究采用溶胶-凝胶法合成不同铁钛摩尔比(0.5:1、1:1、5:1、10:1)的掺铁二氧化钛纳米颗粒。通过盐酸酸处理步骤去除氧化铁污染。采用Langmuir-Hinshelwood动力学模型评估可见光下苯酚的光催化降解效果。 2. 样品选择与数据来源:以苯酚作为污染物代表。纳米颗粒以异丙醇钛和九水合硝酸铁为前驱体合成,使用去离子水作为反应介质。 3. 实验设备与材料清单:设备包括X射线衍射仪(Empyrean,帕纳科)、X射线光电子能谱仪(Omicron XPS,Scienta Omicron)、能量色散X射线光谱仪(S-4800,日立)、高分辨透射电镜(HF-3300v,日立)、紫外-可见分光光度计(LAMBDA 1050,珀金埃尔默;Cary 100,安捷伦)以及300瓦氙灯(Cermax?氙灯,Excelitas)。材料包含异丙醇钛、九水合硝酸铁、盐酸、氢氧化钠及去离子水。 4. 实验流程与操作步骤:通过溶胶-凝胶法合成纳米颗粒,经400°C煅烧后进行盐酸酸处理。光催化反应在派热克斯反应器中进行,调节苯酚溶液pH值并施加可见光照射。光照前于暗处达到吸附平衡。 5. 数据分析方法:根据紫外-可见吸收计算降解效率,采用Langmuir-Hinshelwood方程建立动力学模型,通过XRD数据的谢乐公式测定粒径。
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光电信息材料与器件实验方案
1. 实验设计与方法选择:本研究采用水热法在Si(100)基底上合成GO/ZnO纳米棒/GO纳米复合材料。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、紫外-可见光谱(UV-Vis)和光致发光(PL)光谱等表征技术分析其结构与光学特性。 2. 样品选择与数据来源:样品使用Sigma-Aldrich提供的前驱体合成,包括用于制备ZnO纳米棒的六水合硝酸锌和六亚甲基四胺,以及通过改进Hummers法制备氧化石墨烯的石墨粉。数据均采集自合成的纳米复合材料。 3. 实验设备与材料清单:设备包括Rigaku Smart Lab系统(XRD)、SEM(形貌分析)、Perkin Elmer Spectrum 100(FTIR)、PerkinElmer LAMBDA 1050 UV/Vis/NIR分光光度计(UV-Vis)及Jobin Yvon Fluorolog光谱仪(CCD检测器,PL分析)。材料包含Si(100)基底、六水合硝酸锌、六亚甲基四胺、石墨粉、硫酸、硝酸钠、高锰酸钾、过氧化氢和盐酸。 4. 实验流程与操作步骤:ZnO纳米棒通过加热等摩尔水溶液(90°C,24小时)合成并沉积于Si基底;氧化石墨烯采用改进Hummers法经混合、加热和洗涤步骤制备;GO/ZnO纳米棒/GO复合材料通过依次沉积GO层、生长ZnO纳米棒及覆盖GO层形成。表征过程包括样品干燥及使用指定仪器分析。 5. 数据分析方法:数据分析包括采用Scherrer方程计算XRD晶粒尺寸、解读SEM图像形貌、分析FTIR光谱振动频率、通过UV-Vis的(αhυ)2与光子能量关系图计算光学带隙,以及PL光谱的高斯拟合以识别发射峰与作用机制。
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材料科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择:采用热蒸镀法,将99.99%纯度的CdSe粉末在清洗后的钠钙玻璃基板上沉积制备了一系列CdSe薄膜?;逦露?、沉积速率及源-基板间距分别控制在200°C、0.2纳米/秒和200毫米。沉积时间分别为20、35、50、65和80分钟,对应样品d1至d5(厚度递增)。未进行沉积后退火处理。 2. 样品选择与数据来源:样品编号为d1至d5,厚度范围约241纳米至897纳米。数据来源包括X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)及紫外-可见-近红外光谱(UV-Vis-NIR)。 3. 实验设备与材料清单:设备包含X射线衍射仪(EMPYREAN, PANalytical)、场发射扫描电镜(JSM 7600F, JEOL)、双光束UV-Vis-NIR分光光度计(LAMBDA 1050, Perkin-Elmer)(配三探测器??榧巴ㄓ梅瓷涓郊?。材料包括99.99% CdSe粉末和钠钙玻璃基板。 4. 实验流程与操作步骤:XRD用于物相鉴定与结构分析;Schulz反射法分析晶体取向分布;SEM观察表面形貌与截面;EDS进行成分分析;UV-Vis-NIR采集透射与反射光谱。 5. 数据分析方法:通过Scherrer公式进行XRD线型分析(晶粒尺寸、位错密度、微应变);Swanepoel包络法计算光学常数;Tauc关系确定光学带隙;Urbach规则分析带尾能量;Wemple-De Domenico模型获取色散参数;介电函数分析损耗函数与光学导纳。
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称呼
电话
单位名称
用途