在现代光电系统和电子电工设备中,光学元件名称的准确识别与理解是确保系统设计、维护及优化的基石。无论是构建精密的光纤通信网络,还是调试复杂的激光加工设备,工程师和技术人员若对各类光纤元件、透镜、滤光片等关键部件的命名规则与功能特性模糊不清,极易导致选型错误、性能下降甚至系统故障。随着半导体器件与光电技术的深度融合,掌握规范的光学元件名称不仅关乎技术沟通的效率,
UI-5484LE-M-GL
分类: 科学和工业相机
厂家: IDS Imaging Development Systems GmbH
产地: 德国
型号: UI-5484LE-M-GL
更新时间: 2024-08-28T05:10:57.000Z
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医疗成像 高分辨率 CMOS 机器视觉 低功耗 工业自动化
GigE, CMOS, 14.1 fps, 2560 x 1920, 4.92 MPix, 1/2", ON Semiconductor, Global Start Shutter, Rolling Shutter
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品质保障
严格把控产品质量,呈现理想的光电产品,确保每一件产品都能满足您的专业需求。
概述
参数
- 应用 / Application : Industrial image processing/machine vision, Microscopy, Apparatus engineering, Medical technology, Embedded systems
- 数据接口 / Data Interface : Gigabit Ethernet(GigE)
- 相机类型 / Camera Type : Linear Cameras, Line Scan Cameras
- 扫描模式 / Scan Mode : Prograssive scan
- 传感器类型 / Sensor Type : CMOS
- 色度 / Chrome : Monochrome, B/W
- 透镜支架 / Lens Mount : CS-Mount, C-Mount
- 传感器制造商 / Sensor Manufacturer : ON Semiconductor
- 传感器型号 / Sensor Model Number : MT9P031STM
- 摄像头尺寸 / Camera Head Size : 5.632 x 4.224 mm (Optical Size)
应用
1. 工业自动化 2. 机器视觉 3. 医疗成像 4. 科学研究
特征
1. 高分辨率 2. 低功耗 3. 紧凑设计 4. 多种合并和子采样选项
详述
图片集
规格书
AI 智能分析
该产品已被1篇SCI论文引用
基于平台30万篇光学领域SCI论文分析
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利用等离子体电镀法制备的银纳米粒子光栅芯片检测过氧化氢
银纳米粒子 等离子体镀层 光学传感器 过氧化氢检测 衍射光栅
提出了一种利用银纳米粒子(AgNPs)光栅结构检测过氧化氢(H2O2)的方法?;诘壤胱犹宓缍萍际?,通过绿色激光束的干涉曝光,在镀金纳米粒子(AuNPs)的玻璃板上沉积周期性线状AgNPs结构。该AgNPs光栅芯片能使入射光发生衍射,且衍射效率与AgNPs含量相关。当芯片滴加H2O2溶液后,由于AgNPs的自催化分解作用,衍射强度会下降。研究构建了衍射强度变化的便携式测量系统,只需将H2O2溶液滴加在基底上,即可在2分钟内完成6.7-668 μmol/L浓度范围内的H2O2检测。
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光电信息科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择:本研究采用等离子体镀膜法结合干涉激光曝光,在金纳米颗粒修饰的玻璃板上制备银纳米颗粒光栅结构用于过氧化氢检测。 2. 样本选择与数据来源:通过磁控溅射金薄膜并在玻璃板上退火制备金纳米颗粒基底,利用绿色激光束的干涉曝光装置构建银纳米颗粒光栅结构。 3. 实验设备与材料清单:包括绿色激光器(MSL-III-532,CNI)、电动直线平移台(HPS80-50X-M5,Sigma Koki)、机械快门(F573,Suruga Seiki)及便携式测量系统(含红色激光器CPS635R,Thorlabs和CCD相机UI-2410SE-M-GL,IDS)。 4. 实验流程与操作步骤:通过干涉激光曝光制备银纳米颗粒光栅结构,施加过氧化氢后通过测量衍射强度变化实现检测。 5. 数据分析方法:采用RCWA模拟分析衍射强度变化,使用CCD相机测量时间序列强度变化。
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