两步后处理对HfO?/TiO?/SiO?多层高反射膜光学性能、微观结构及纳秒激光损伤阈值的影响

摘要： 采用电子束沉积的HfO2/TiO2/SiO2周期性多层高反膜分别经过两步后处理和热退火后处理。对比研究了薄膜的光学性能、微观结构、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)。结果表明：两步后处理增强了高反膜的致密度，降低了膜层表面粗糙度与缺陷。测试显示经两步后处理的HfO2/TiO2/SiO2高反膜LIDT达到32.8 J/cm2，较未处理膜提升110.26%；相比热退火后处理的高反膜，两步后处理使LIDT提高近27.6%。高反膜的两步后处理能有效去除膜表缺陷，减少膜内氧空位，从而进一步提升高反膜的激光损伤阈值。