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两步后处理对HfO?/TiO?/SiO?多层高反射膜光学性能、微观结构及纳秒激光损伤阈值的影响

DOI：10.1116/1.5116294 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 出版年份：2019 更新时间：2025-09-19 17:13:59
摘要： 采用电子束沉积的HfO2/TiO2/SiO2周期性多层高反膜分别经过两步后处理和热退火后处理。对比研究了薄膜的光学性能、微观结构、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)。结果表明：两步后处理增强了高反膜的致密度，降低了膜层表面粗糙度与缺陷。测试显示经两步后处理的HfO2/TiO2/SiO2高反膜LIDT达到32.8 J/cm2，较未处理膜提升110.26%；相比热退火后处理的高反膜，两步后处理使LIDT提高近27.6%。高反膜的两步后处理能有效去除膜表缺陷，减少膜内氧空位，从而进一步提升高反膜的激光损伤阈值。
作者： Sida Mao，Jie Fan，Yonggang Zou，Yunping Lan，Yingtian Xu，Jiabin Zhang，Jianing Dong，Xiaohui Ma
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

研究两步后处理对HfO2/TiO2/SiO2多层高反射膜光学性能、微观结构及纳秒激光损伤阈值的影响。

研究成果

两步后处理工艺通过提高薄膜密度、降低表面粗糙度并减少缺陷，显著提升了HfO2/TiO2/SiO2高反膜的激光损伤阈值。该方法结合了离子后处理与热退火的优势，为增强光学薄膜抗激光损伤能力提供了有效途径。

研究不足

本研究仅限于HfO2/TiO2/SiO2多层高反射膜，未探索其他材料体系。对于超出规定条件的离子后处理参数变化影响也未进行研究。

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